研究它们相互作用的物理化学过程机理是微电子学、固体表面改性、功能材料等材料发展的重要课题。冷等离子体的高活性可在室温下引起多种化学反应和物理掺杂，固体表面改性但主体材料的整体性能不受影响。等离子体化学气相沉积（CVD）物理气相沉积（PVD）方法广泛应用于功能材料的制备，表明低温等离子体在材料表面改性方面具有很大的优势。
目前，列举表述固体表面改性的方法低温等离子体与材料相互作用的研究已经发展成为国际上活跃的领域。研究其相互作用的物理化学过程机理，是发展微电子学、固体表面改性、功能材料等材料领域里的重要课题。低温等离子体高的活性，在室温下可以引起多种化学反应或物理掺杂，而基质材料的本体性能不受影响。等离子体化学气相沉积（CVD）物理气相沉积（PVD）方法已广泛用于制备功能材料，显示出低温等离子体对材料表面改性有着较大的优势。
目前，列举表述固体表面改性的方法冷等离子体与材料相互作用的研究在国际上正在发展成为一个活跃的领域。研究它们相互作用的物理化学过程机制是微电子学、固体表面改性、功能材料等材料发展的重要课题。冷等离子体的高活性可在室温下引起多种化学反应和物理掺杂，但主体材料的整体性能不受影响。等离子体化学气相沉积（CVD）物理气相沉积（PVD）方法广泛应用于功能材料的制备，表明低温等离子体在材料表面改性方面具有很大的优势。
相反，固体表面改性如果润湿是局部的，接触角可以在0和180度之间平衡。固体基体表面张力越高，其润湿性越好，接触角越小。为了使液体与材料表面形成良好的粘结，材料的表面能应大于液体张力约2-10Mn /m。这类高分子材料具有化学惯性大、摩擦系数小、磨损大、耐穿刺、耐撕裂等特点。然而，这些聚合物较差的润湿性给设计师带来了粘合和装饰材料的问题。等离子体表面处理通过增加材料表面的能量来改善润湿性，并通过创建连接点来影响粘附性能。
列举表述固体表面改性的方法
等离子体可以提高任何材料的表面活性，安全、环保、经济。等离子体清洗的机理主要取决于&ldquo；激活&rdquo；达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理而言，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发成等离子体态；气相物质吸附在固体表面；被吸附着基团与固体表面分子反应形成产物分子；产物分子分解形成气相；反应残留物从表面除去。。
气体分子的激发是通过将气体（以开放式设计提供）引入电场（通常是高频）来实现的。在高频电场的作用下，自由电子产生能量，与中性气体分子碰撞，传递能量并解离，形成许多活性物质。受激物质与等离子体另一侧的固体表面相互作用，从而对材料表面进行化学和物理改性。等离子体对特定物质的影响取决于表面与等离子体中反应物之间的化学反应。当接触能较低时，等离子体与表面的相互作用只能改变材料的表面，限制了其有效性。
等离子化清洗技术应用于智能手机和移动终端设备：自动化等离子清洗点胶机可应用于光学透镜、照相机模组、触摸屏、耳麦、扬声器、连接器、散热材料、PCB/FPC、显示面板、金属框、玻璃盖板、被动元件、振动马达等，种类繁多，远超 +种，远远超过了上述列举。
相反，我们可以把等离子体定义为一种离子和电子密度近似相等的电离气体。从上面提到的微弱的烛光中，我们可以看到等离子的存在，夜空中充满了热的、完全电离的等离子。根据印度天体物理学家沙阿(M·萨哈，1893-1956)的计算，宇宙中99.9%的物质处于等离子体状态。我们生活的地球是一个例外的凉爽的星球。此外，对于自然界中的等离子体，我们还可以列举太阳、电离层、极光、闪电等。
固体表面改性
因此，固体表面改性等离子清洗点胶机先清洗后点胶的工艺得到推广，成为业界公认的工艺。目前等离子清洗点胶机的典型方面有以下几个方面。1.等离子清洗点胶机在智能手机及移动终端设备中的应用在这方面，自动等离子清洗点胶机可以应用和加工的产品包括光学镜头、摄像头模组、触摸屏、耳机、扬声器、连接器、散热材料、PCB/FPC、显示面板、金属边框、玻璃罩、被动元件、振动马达等，种类繁多，远不止上面列举的几种。
等离子体表面改性技术已广泛应用于电子、机械、纺织、生物医学工程等领域。目前，列举表述固体表面改性的方法低温等离子体与材料相互作用的研究在国际上已发展成为一个活跃的领域。研究它们相互作用的物理化学过程机理是微电子、固体表面改性、功能材料等材料领域的重要课题。低温等离子体具有高活性，在室温下可引起许多化学反应或物理掺杂，而基体材料的体积性能不受影响。
