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单晶圆清洗设备一般是指使用旋转喷淋对单晶圆进行化学喷淋清洗的设备。与自动化清洗站相比，镀层附着力最大能做到多少清洗效率较低，生产能力较低，但对工艺环境的控制能力要高得多。并去除颗粒。自动化工作站，也称为罐式自动清洗机，是指在化学浴中同时清洗多个晶圆的设备。以目前的（顶级）技术，很难满足整个工艺的参数要求。此外，由于同时清洗多个晶圆，自动化清洗站无法避免相互污染的弊端。
同时，镀层附着力最大能做到多少表面处理也是非常有益的。随着高科技产业的快速发展，真空等离子体设备制造商的等离子体清洗技术已广泛应用于电子、半导体、光电等高科技领域。以下是真空等离子体设备制造商处理金属铝的例子：经真空等离子体设备表面处理后，接触角由开始的87.7°下降到19.1°，大大改善了金属铝的表面润湿性。。真空等离子体设备清洗技术在医疗行业中的应用；（1）静脉输液器在使用过程中，拔出时会出现针座与针管之间脱出的现象。
而等离子体表面处理是利用非聚合性无机气体(Ar2、N2、H2、02等)的等离子体进行表面反应，镀层附着力最大能做到多少通过表面反应在表面引入特定官能团，产生表面侵蚀，形成交联结构层或生成表面自由基，在经等离子体活(化)而成的表面自由基位置，能进一步反应产生特定官能团，如氢过氧化物。较为普遍的是在高分子材料表面导人含氧官能团。如-0Η、-00Η等。还有人在材料表面引入了胺基。
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等离子技术是一新兴的领域，该领域结合等离子物理、等离子化学和气固相界面的化学反应，此为典型的高科技产业，需跨多种领域，包括化工、材料和电机，因此将极具挑战性，也充满机会，由于半导体和光电材料在未来得快速成长，此方面应用需求将越来越大。。
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