去除的污染物可以是有机物、环氧树脂、光刻胶、氧化物、颗粒污染物等。等离子清洗设备可以根据污染的类型使用不同的清洗方法。 1、等离子清洗设备的焚烧 表层有机层 污染物在真空泵和瞬时高温下蒸发，环氧烤漆对铝材的附着力被高能离子粉碎后从真空泵中排出。污染层并不厚，因为紫外线会破坏污染物，而等离子体处理每秒只能穿透纳米。指纹也可以。 2. 等离子清洗设备 氧化物去除 该工艺使用氢气或氢气和氩气的组合。在某些情况下，可以使用两步法。
因此，环氧烤漆附着力等离子清洗后，孔中心的清洗量小，孔端的清洗量大。在清洗或蚀刻过程中，气体总是对等离子体的穿透能力有显着影响。用不同的CF4+O2气流蚀刻出深度为2.7mm、直径为0.25mm的通孔。通孔的孔壁只有环氧玻璃布，没有铜层。蚀刻试验：按以下参数进行。 CF4+O2的流量分别为300M/MIN、500ML/MIN、700M/MIN、900ML/MIN。
在LED环氧注塑过程中，环氧烤漆附着力污染物会导致气泡形成率高，进而导致产品质量和使用寿命低。因此，防止密封胶过程中气泡的形成也是人们关注的问题。经过rf等离子清洗后，芯片与基片与胶体的结合会更加紧密，气泡的成分会大大减少，而且散热率和光发射率也会显著提高。使用等离子清洁器去除油污，清洁金属表面。
射频等离子清洗可以显著提高焊线的表面活性和焊前的结合强度和抗拉强度。焊缝上的压力可以很低(当有污染物时，环氧烤漆附着力焊缝头穿透污染物，需要更...
