1.激活和蚀刻材料表面或非常薄的表面层； 2.首先将处理过的表面活化，物理气相沉积附着力引入活性基团，然后基本上为此采用接枝法，在原有表面上形成许多分支，形成新的表面层； 3、使用气相聚合物在处理过的表面上沉积形成薄膜。等离子在材料表面产生溅射、蚀刻、腐蚀、解吸和蒸发等过程，一些粒子被注入到材料基体表面并发生碰撞、散射、激发、振动、重排等过程，造成异构化、缺陷、损伤、结晶和非晶化等。
使用大气等离子清洗机化学气相沉积金钢石膜，物理气相沉积附着力首要要了解金钢石的成核过程，通常将其分为两个阶段：含碳量官能团抵达基材表层，然后分散到基材内部；第二阶段是抵达基材表层的碳原子在基材表层上以缺陷、金钢石子晶等为中心的成核、生长；因而，决定钻石形核的要素包括：1.基材信息：由于形核取决于基材表层碳的饱和度和抵达核心的临界浓度，因而，基材信息的碳分散系数对形核有着重要影响。
该化学过程依赖于产生气相辐射的等离子与基片表面进行化学反应，物理气相沉积附着力从而产生高压。采用高工艺压力进行化学反应的等离子工艺，是由于需要高度集中于基片表面的活性反应成分。压力越大，化学工艺清洗速度越快。动力：等粒子动力增加了离子在等离子体中的密度和离子能量，从而提高了清洁速度。离子性密度是单位体积内活性反应的成分数。提高离子密度可以提高清洗速度，因为活性反应组分浓度较高。离子能决定了活性反应的成分进行物理操作的能力。
当以这种方式产生的电子被电场加速时，低压化学气相沉积附着力它们获得高能量并与周围的分子或原子碰撞。结果，分子和原子中的电子被激发，它们本身变成激发态或离子态。此时，物质存在的状态是等离子体状态。在辉光放电的情况下，在高频电场下处于低压状态的氧气、氮气、甲烷和水蒸气等气体分子被加速分解为原子和分子，产生电子和解离。这些点是带正电和带负电的原子和分子。当以这种方式产生的电子被电场加速时，它们获得高能量并与周围的分子或原子碰撞。
低压化学气相沉积附着力
简单地如开头说，等离子清洗需要在真空状态下进行，准确的说是低压状态下，如果完全真空的话也就意味着没有等离子体，等离子清洗也就不存在了（一般需保持在 Pa左右），所以需要真空泵进行抽真空作业。
真空（低压）等离子体清洗机是先将反应室抽真空，然后引入反应气体，维持到一定的真空度，再对电极通电，形成高频高压电场，激发气体放电的装置。。激光熔覆及等离子清洗机等离子渗氮复合涂层组织活化屏；齿类零件是机械系统中传递载荷和运动的重要零件。在循环载荷和长期磨损条件下，齿类零件常因齿面损伤或齿体损伤而失效，齿的失效直接影响机械系统的正常运行。由于齿件数量多、功能大、成本高，对齿件进行再制造具有显著的经济效益。
其中Ar等离子体清洗方式主要以表面物理溅射为主。Ar离子在电场中获得足够的能量去轰击表面，以去除表面分子和原子，使得污染物从表面去除，改善表面的粘附功，同时也会改变表面粗糖度。由于Ar是惰性气体，不与材料表面发生反应，能够处理一些易于被氧化的物质的表面。但也存在会对表面有比较大的损伤和热效应。 O2等离子和H2等离子都具有活拔的化学性质，是等离子清洗中典型的化学反应清洗。
机制也不同：超声波等离子体产生的反应是物理反应，高频等离子体产生的反应包括物理反应和化学反应，微波等离子体产生的反应是化学反应。高频等离子清洗和微波等离子清洗主要用于现实世界的半导体制造应用，因为超声波等离子清洗对要清洗的表面有很大的影响。超声波等离子用于表面脱胶、毛刺研磨和其他处理。典型的等离子物理清洗工艺是在反应室中加入氩气作为辅助处理的等离子清洗。
气相沉积附着力
聚变三乘积已达到或接近达到氘-氚热核聚变反应的得失相当条件，气相沉积附着力并与氘-氚聚变点火条件相差不到一个量级，表明托卡马克已具备开展燃烧等离子体物理和聚变堆集成技术研究的条件。即将建造的国际热核聚变实验堆(ITER)将是开展该研究的重要实验装置。
