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等离子干法刻蚀机生产厂家的镓砷刻蚀；除了铟、镓和砷之外，漆膜附着力不强怎么治镓和砷也是人们普遍期待的半导体材料，它们经常被一起用于构建高性能器件。因此，我们有必要对这类半导体的刻蚀技术进行探索和展望。以Cl2和BCl3为混合介质，刻蚀速率为6～8um/min，光刻胶为掩膜材料，选择性为8：1,对镓砷半导体进行了深孔刻蚀。
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面对前所未有的局面，一些已成为替代品的氯代烃类清洗剂、水性清洗剂和烃类溶剂有毒、用水处理麻烦、清洗和干燥少，有些难度大、安全性差。这些缺点阻碍了国内清洁行业的发展。另外，目前市面上的超声波清洗机是不能改装的，只能清洗一些表面看得见的物体。工艺中的各种缺陷为您提供等离子清洗机（点击查看详细信息）。 -高科技产品。等离子体与固体、液体和气体一样，是物质的状态，也称为物质的第四态。
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