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外延片等离子体去胶机
5、低能耗节能:运行成本低，节电为LDquo;低温等离子体;RDQUO其中核心技术，0M3/h异味处理，功耗仅0.25度。本设备无任何机械动作，自动化程度高，工艺简单，操作简单，无需专人管理和日常维护方便，故障时自动停机报警，仅供定期检查。6、设备组合性强:& LDquo;低温等离子体& RDQUO;产品重量轻，体积小。可根据场地要求垂直或水平放置。
从上面的例子也可以看出，对于不同的材料，液滴角度的初始角度和处理后的角度有很大的不同，特别是对于一些含有很多成分的复合材料，其中含有F的材料很难处理。液滴角是量化处理效果(效果)的一种简单方法，但需要根据材料的特性和被处理产品的实际使用要求制定合理的试验方案。如果在清洗过程中颗粒被清除，不建议使用水滴角测试来评估其是否清洁。水滴角测试不能反映颗粒是否被去除，只能反映表面能是否提高。
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射频等离子清洗后，芯片与基片与胶体结合更加紧密，泡沫的形成将大大减少，并将显著改善散热和光发射率。金属表面经常有油脂、油等有机和氧化层，溅射、涂敷、胶粘剂、粘接、焊接、钎焊和涂覆等，需要经过等离子体处理彻底清除和表面氧化层。
外延片等离子表面处理设备
