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因而，在硅电池表层中，少量载流子的寿命极低，表层吸收短波光子所发生的光生载流子对电池的光电流输出奉献甚微，因而，该表层称为“死层”。“死层”的存在是不可避免的，可是能够使用一些方法来下降“死层”的影响。低温等离子体的吹扫能够使外表磷原子分布更加均匀，促进磷原子的正确落位，然后下降了电池片外表的死层影响。低温等离子体处理的一个明显特点是对工艺参数进行操控，使其具有良好的可靠性和重现性，特别是在工业出产中。
2010年，中国科学院物理研究所张光宇发表了以氢气为主要气体蚀刻单层和双层石墨烯的文章。论文指出，射频频率的功率是一个重要参数，如果太大，很容易在石墨烯上刻蚀出深槽，形成大量缺陷。更强的等离子蚀刻导致更宽的沟槽和更深的孔。如果氢等离子体功率过高或过长，石墨烯表面的断裂键会进一步受到攻击并继续变宽，形成深峡谷，同时攻击其他部分，石墨烯是深六边形，形成气孔。
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今天，广东等离子式除胶渣机视频大全许多制造商使用等离子技术来处理这些基板。等离子冲击提高了材料表面的微观活性，可以显着（明显）提高涂层效果。实验表明，需要选择不同的工艺参数来在等离子清洗机中处理不同的材料，以达到更好的活化（化学）效果（结果）。。随着半导体技术的不断发展，半导体制造过程中对工艺技术的需求，特别是对半导体晶圆表面质量的要求越来越高，晶圆清洗质量对器件性能产生严重影响。
