40KHz中频等离子清洗机和13.56MHz高频等离子清洗机的区别等离子清洗是一种干法物理化学清洗技术。它是利用低真空状态下工艺气体因电场的作用，产生辉光放电，将工艺气体电离成离子流，轰击工件表面，使其产生物理化学反应，达到清洗目的。等离子清洗机按其等离子激发频率可分为：中频(40KHz)、高频(13.56MHz)和微波(2.45GHz)三种等离子清洗机，随着频率的升高，离子浓度增大，离子能量下降。中频40KHz等离子清洗机主要应用于污染较重，且不易受到损伤的元件(如外壳、成膜基板、焊片等)，其中主要是离子的物理撞击作用(物理清洗)，化学清洗作用其次。微波等离子清洗机主要应用于敏感器件(半导体芯片，特别是微波器件)，这时主要是离子化学反应。而13.56MHz射频等离子清洗机的应用则介于上述两者之间，兼具化学和物理清洗。
13.56MHz射频等离子清洗机与40KHz中频等离子清洗机的区别如下：
目前市面所售的等离子清洗机有低频放电方式，频率为40KHz，低频放电符合辉光放电的特性，与射频放电相比，电流很小，不存在阻抗匹配的问题，结构简单，多为电容耦合结构，因此电极的二次污染问题仍然存在。
高频放电的频率一般为10M～100MHz，这一频率属于无线电频谱范围，因此又称为射频(RF)放电，根据国际通用的规则射频放电的频率为13.56MHz。射频放电能产生和维持高密度、连续、均匀的等离子体，高频放电时，由于频率很高，带电粒子在电场周期内还未运动到极板，电场就发生了改变，带电粒子在电场作用下向反方向移动，如此往复形成振荡，因为粒子的运动行程很长，增加了与气体分子碰撞的机率，电离度比直流辉光放电高出几个数量级，而且可以在较低的电压下维持。射频放电在较高和较低的气压下都能放电，在工业中有不同应用。与直流放电相比，射频放电有以下优势：
1.较低的气压条件下仍能放电，放电维持能量低，由于带电粒子在极间做往复运动，大大增加了电离机率，因此在较低的气压条件下仍能够维持放电，形成稳定的等离子体，最低压强可达10-1Pa。
2.射频放电的粒子运动机制决定了具有较高的电离度。
3.等离子体分布均匀。
综上所述40KHz中频等离子清洗机的作用主要为物理撞击反应，其撞击力度大，对被清洗表面影响最大；13.56MHz射频等离子清洗机主要为物理加化学反应（需要采用氧气、氢气、氩气等气体，如采用单独氩气则为单独物理反应），其撞击力度适中，可以去除零件表面残留的灰尘、一般氧化层等杂质。40KHz中频等离子清洗机和13.56MHz高频等离子清洗机的区别00224256