等离子体是由正离子、负离子和自由电子等带电粒子和不带电的中性粒子如激发态的分子以及自由基组成的部分电离的气体，含氨基的表面附着力促进剂由于其正负电荷总是相等的，故称之为等离子体。一些非聚合性无机气体（Ar、N2、O2等）在高频低压下被激发，产生含有离子、激发态分子和自由基等多种活性粒子的等离子体。
以下物质以等离子体状态存在：快速移动的电子、活化的中性原子、分子、自由基、电离的原子和分子、未反应的分子、原子等。它总体上保持电中性。在真空室中，附着力促进剂嘉兴高频电源在恒压下产生高能混沌等离子体，等离子体与被洗物表面碰撞。等离子清洗机达到清洗的目的。 1）对材料表面的蚀刻——物理作用等离子体中的众多离子、激发分子、自由基等活性粒子作用于固体样品表面，简单地去除原有的污染物和杂质。
等离子设备用于晶圆加工在表面处理中的应用:晶圆加工是国内半导体产业链资金投入的很大一部分，附着力促进剂嘉兴等离子设备广泛应用于硅片铸造，也有专用的晶圆加工等离子设备。中国的代工行业在整个半导体产业链上投入了大量资金。具体来说，foundry就是在硅片上制造电路和电子元件，这对于整个半导体产业链来说是一个相对复杂的技术步骤，投资范围也比较广。
特征性：能实现各向异性蚀刻，含氨基的表面附着力促进剂以保证细节转换后图像的保真性。缺点：成本一般，且用于微流控芯片的制备较少。干式刻蚀系统包括：用于容置电浆用的空腔；空腔上方的石英盘；石英盘上方的多个磁体；旋转机构，它带动多个磁体旋转，其中多个磁体产生与该磁体一起旋转的磁场。通过进一步提高粒子的碰撞频率，可以获得佳的电浆均匀性，提高等离子浓度。。
含氨基的表面附着力促进剂
一般在等离子体清洗中，活化气体可分为两类，一类是惰性气体等离子体（如Ar2、N2等）；另一类是反应气体（如O2、H2等）的等离子体。。说到等离子体清洗机的激发频率，通常有三种不同的类型，根据激发频率分别为40kHz、13.56MHz、2.45GHz，也就是我们常说的中频等离子体清洗机、射频等离子体清洗机、微波等离子体清洗机。励磁频率的不同主要是由于配置电源频率的不同造成的。
含氨基的表面附着力促进剂
