根据等离子体作用下C2烃的产率，附着力促进剂有哪些负载的过渡金属氧化物的催化活性顺序如下： Na2WO4 / Y-Al2O3> Cr2O3 / Y-Al2O3 ≈ Fe2O3 / Y-Al2O3> TiO2 / Y-Al2O3 ≈ NiO / Y-Al2O3 ≈ Mn2O3 / Y-Al2O3> Co2O3 / Y-Al2O3> ZnO / Y-Al2O3 ≈ MoO3 / Y-Al2O3 ≈ Re2O7 / Y-Al2O3 根据 CO 产率的高低，负载的过渡金属氧化物的催化活性顺序如下： NiO / Y-Al2O3> TiO2 / Y-Al2O3> Re2O3 / Y-Al2O3 ≈ Fe2O3 / Y-Al2O3 ≈ Co2O3 / Y-Al2O3> MoO33 / Y-Al2O3 ≈ ZnO / Y-Al2O3 ≈ Mn2O3 / Y-Al2O3> Na2WO4 Y -Al2O3 ≈ Cr2O3 / Y-A12O3。
来自各种试剂和化学试剂的清洗液与金属离子发生反应，金属附着力促进剂有哪些形成金属离子配合物，金属离子配合物从晶圆表面分离。氧化物:当半导体晶圆片暴露于氧和水时，在其表面形成天然的氧化物层。这种氧化膜不仅阻碍半导体制造的许多步骤，而且还含有金属杂质，在一定条件下可以转移到芯片上形成电气缺陷。这种氧化膜的去除通常通过在稀氢氟酸中浸泡来完成。
由于温度与射频功率成正比升高，金属附着力促进剂有哪些不同材料的温度要求不同，金属件一般没有特殊要求，但要注意防止金属氧化。等待温度下降，防止非金属变形。 (4)等离子清洗机的压力在设备运行期间，真空室中的压力主要受漏气率、膨胀率和泵速率的影响。对于要去除的各种材料和污染物，所需的压力也不同。当填充惰性惰性气体（如氩气或氮气）时，纯化过程主要取决于离子的物理影响。此时，可以提高或降低泵速，以降低真空室内的压力。高能量对表面产生冲击。
不同气体的等离子体具有不同的化学性质，金属附着力促进剂有哪些如氧等离子体具有高氧化性，可以氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果;腐蚀性气体的等离子体具有良好的各向异性，因此可以满足腐蚀的需要。当使用等离子体时，会发出辉光，因此称为辉光放电。等离子体清洗的机理主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化”来去除物体表面的污渍。
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等离子清洗机的清洗原理 及特点等离子清洗机的清洗原理是在真空腔体里，经过射频电源在必定的压力情况下起辉发生高能量的无序的等离子体，经过等离子体炮击被清洗产品外表，以抵达清洗意图。 在这种情况下，等离子处理能够发生以下效果： 1、灰化外表有机层 污染物在真空和瞬时高温下的部分蒸发，污染物被高能离子损坏并被真空带走。 紫外辐射损坏污染物，因为等离子体处理每秒钟只能穿透几纳米，所以污染层不应该太厚。
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通常情况下，物质以固态、商业态和气态三种状态存在，但在一些特殊情况下可以以第四种状态存在，比如太阳表面的物质、地球大气层电离层的物质等。这类物质的状态称为等离子体态，也称为势物质的第四态。以下物质存在于等离子体中。高速运动的电子；处于活化状态的中性原子、分子和原子团（自由基）；电离原子和分子；分子解离反应过程中产生的紫外线；未反应的分子、原子等，但物质作为一个整体保持电中性。
(4)接触时间:待清洗材料在等离子体中的接触时间对清洗效果和等离子体工作效率有重要影响。接触时间长，清洗效果比较好，但工作效率低。(5)传输系统速度:对于常压等离子体清洗过程，连续传输系统会涉及到大型物体的处理。因此,慢的相对运动对象清洗电极,处理的效果就会越好,但太慢会影响工作效率,另一方面,另一方面,会导致材料的表面的损伤,导致延长处理时间。
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