这些装置的致命缺点不仅是放电清洗非常不均匀，环氧树脂对电镀件的附着力而且容易因有害放电而污染或损坏基材。此外，辉光放电也很不稳定，特别是当衬底移动时，等离子体也很不稳定由于体积阻抗变化较大，这些器件很难在连续涂装线中使用。近年来，公司成功开发了年产4万吨ITO玻璃自动化生产线。在进行SiO2膜和ITO膜的电镀前，安装了一套在线清洗装置，可以产生大面积、均匀、稳定的多面体。该装置由防护罩、门和加速器组成。
但由于柔性材料PI不耐强碱，环氧树脂对电镀件的附着力故铜沉淀前处理应采用酸性溶液。目前主要采用化学法沉铜碱性，所以反应时间和溶液浓度必须严格控制。如果反应时间过长，聚酰亚胺会膨胀。反应时间不足，导致空洞和孔内铜层力学性能差。虽然可以通过电气测试，但往往不能通过热冲击或用户的组装过程。镀铜为了保持软板的柔韧性，有时只选用镀铜，称为扣板。做图形转移后的电镀孔前选择性电镀，电镀原理与硬板相同。图案传递过程与刚性板相同。
否则会出现腐蚀等问题。良好的粘合通常会被电镀、粘合和焊接操作中的残留物削弱，环氧树脂对电镀件的附着力这些残留物可以通过等离子方法选择性地去除。同时，氧化层对键合质量有不利影响，需要等离子清洗。二、等离子蚀刻在等离子体蚀刻工艺中，蚀刻气体通过工艺气体变成气相（例如，当使用氟气蚀刻硅时）。工艺气体和基板用真空泵抽出，表面不断覆盖新的工艺气体。不想腐蚀的部件应该用材料覆盖（例如用于半导体行业的铬）。
焊接接头上的压力可以很低（当存在污染物时。焊接接头穿透污染物，环氧树脂对电镀件的附着力需要更大的压力），在某些情况下，连接温度也可以降低，从而增加产量和降低成本。过胶：环氧树脂在加工过程中，污染物会导致泡沫发泡率过高，造成产品质量和使用使用寿命低，所以为了避免密封泡沫形成过程中出现的情况。清洗后，芯片和基底会与胶体结合得更紧密。形成的泡沫会大大减少，同时散热和光发射率也会显著提高。。
环氧树脂对电镀件的附着力
当使用等离子体时，会发出辉光，因此称为辉光放电。等离子清洗机技术的最大特点是既可以加工对象基材类型，也可以加工金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚(乙)氯、环氧，甚至可以很好地与聚四氟乙烯等，并可实现整体和局部清洗和复杂结构。随着经济的发展和人民生活水平的不断提高，对消费品的质量要求也越来越高。等离子体技术已逐步进入消费品生产行业。
例:H2+e→2H*+e-H*+非挥发性金属氧化物→金属+H2O从反应公式可以看出，氢等离子体可以通过化学反应去除金属表面的氧化层，清洁金属表面。物理清洗：以物理反应为主要表面反应的等离子体清洗，也叫溅射蚀刻(SPE)。例:Ar+e→Ar++2E-Ar++污染→挥发性污染Ar+在自偏压或外加偏压作用下加速产生动能，然后轰击被清洗工件表面，一般用于去除氧化物、环氧树脂溢出或微粒污染物，同时激活表面能。。
等离子体具有电子、离子和具有特定能量分布的中性粒子，当它们与材料表面发生碰撞时，这些能量会传递给材料表面的分子和原子，从而产生一系列物理结果。你可以的。和化学过程。一些粒子也可以注入到材料表面，引起碰撞、散射、激发、位错、异构化、缺陷、结晶和非晶化，从而改变材料的表面特性。等离子体可以分解暴露于高能材料的材料表面的聚合物，产生自由基。
D.在线等离子清洗机清洗完毕后，等离子清洗机仓库的天花板门打开，装载平台从等离子中取出。车身清洗仓将从清洗区移至卸料区； F、将装载平台上的产品重新装载到料箱中。从以上技术方案可以看出，在线等离子清洗机的清洗方式是将待清洗产品从料箱中取出，将待清洗产品放在台上，再对待清洗产品进行清洗。...不是将待清洗的产品排成一排，而是放在同一平面上，同时台上没有侧板，所以待清洗的产品表面被彻底清洗干净。
电镀件的附着力
如果使用等离子体处理技巧，环氧树脂对电镀件的附着力不仅能有效避免使用化学物质的弊端，还能在很大程度上节约资源、减少浪费。可以说，等离子体处理技能可以应用在很多领域。它不仅具有非常好的清洁能力，而且可以在外部蚀刻活化。这些优势使等离子体治疗技能得到更广泛的应用，在不久的将来其覆盖面将更广。
理想原子层蚀刻周期可分为以下四个阶段:(1)在腔体中渗透反应气体，环氧树脂对电镀件的附着力对材料表面进行修饰，形成单一的自限层;(3)向空腔内引入高能粒子，去除单一的自限层，实现自限蚀刻行为;(4)停止进入高能粒子，并利用等离子体表面处理机的真空设备泵去除多余的颗粒和未参与蚀刻的蚀刻副产物。对于实际原子层蚀刻过程中每个循环的反应A和B，理想的单层自限蚀刻工艺难以实现。
