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蚀刻速率相当高，刻蚀机龙头股但在图案复杂密集的区域，产生的副产物不易挥发，而且等离子蚀刻垫圈本身的等离子蚀刻气体聚合物非常重且容易。由于蚀刻停止现象发生在蚀刻图案的底部，图案的外观变差，因此需要进一步改进CH4和H2的气体组合，使其成为工业上适用的磷化铟蚀刻方法。有文献指出，以氯气为主要刻蚀气体的磷化铟低温刻蚀存在刻蚀速度很慢、在低温条件下副产物难以去除的问题。

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