这在接触孔与天线的比例非常小时（例如20）会导致PID问题，外延片等离子体蚀刻机器但对于高层金属，直到天线比例在数千个时才会出现PID问题。.. ..金属层蚀刻的过蚀刻时间越长，PID越差。高频功率与低频功率之比越高，PID 越差。PID的问题是电源的频率越高，等离子体密度越高，相应的电荷堆积越严重，这使得PID变得更糟，电源的频率越高，它变得越严重.然而，应仔细考虑频率选择，因为高频功率对于控制蚀刻中的聚合物副产物很重要。
在材料之前，外延片等离子体蚀刻机器需要用等离子表面处理对表面进行清洁和蚀刻，但通过在化纤表面引入极性或活性基体，同时去除有机（有机）涂层和污染物来引入活性中心。形成中心）），同时也引起接枝、交联等反应，利用化学纤维表面的清洗、蚀刻、活化（化学）、接枝、交联等综合作用。
除离子外，外延片等离子体蚀刻机器冷等离子体中的大多数粒子具有比这些化学键的键能更高的能量。但其能量远低于高能放射线，因此只涉及材料表面（纳米和微米之间），不影响材料基体的性能。但在实际使用中，能量过大或长期作用会损坏材料表面，甚至破坏材料基体的固有性能。由于低温等离子表面处理，使材料表面发生多重物理化学变化，被蚀刻使表面粗糙，形成致密的交联层，或引入含氧极性基团亲水。粘合剂并提高染色性和生物相容性。
..等离子体是物质的状态，外延片等离子体蚀刻也称为物质的第四状态，不属于一般固液气体的三种状态。当向气体施加足够的能量以使其电离时，它就会变成等离子体状态。等离子体的“活性”成分包括离子、电子、原子、反应基团、激发核素（亚稳态）、光子等。将反应性气体引入等离子清洁器的废气中会导致活性物质表面发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基和羧基。 ..这些官能团是活性基团，可以显着提高材料的表面活性。
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在种子等离子表面处理过程中，等离子能有效杀灭种子表面的细菌，从而提高种子在发芽过程中的抗病性，显着降低苗期病害的发展。 ..在种子等离子表面处理过程中，激活种子中各种酶的活性，提高了作物的耐旱性、耐盐性和耐寒性。 4. 增长的好处是显而易见的。种子经等离子体表面处理后，种子活性和各种酶活性显着提高，植株根系生长得到极大促进，根数和干物质重显着增加。
& EMSP; & EMSP; 离子型氮化碳在短时间内高效，可以获得较厚的复合层，具有优异的耐磨性、抗粘附性和抗疲劳性。与常规工艺相比，应用于模具的离子氮化碳技术具有高效、清洁、节能、渗透层质量高、相组成易于控制等优点。该工艺具有很强的市场竞争力。
在等离子体系统中，许多类型的活性粒子会引起许多反应，因此在反应过程中几乎不可能操纵特别重要和决定性的粒子。在等离子体环境中，高能粒子可以破坏分子中的共价键。高能电子参与电子能量分布函数的尾部以及非平衡等离子体中存在的强局部电场可能完成新的化学反应。..等离子体环境适用于许多化学反应。产生特定反应的能力主要取决于输入过程参数，例如气体类型、流速、压力和输入功率。边界和基地之间也有各种影响。
这些泵还可以处理颗粒物、冷凝物或腐蚀副产品。空转泵的优点是优化了生产燃料的消耗。这些泵不需要预防性维护。 (换油) 三、罗茨泵旋片泵产生的压力有限。建议与罗茨泵结合使用，以提高抽吸性能。它们形成一个所谓的泵站。常见的组合有： 1. DI 泵（例如旋片泵）产生预真空。它被称为“前级泵”。 2. 作为第二台泵，使用罗茨泵提高泵速。
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