还有的情况是，电晕处理站陶瓷放电电极当自由基与物体表面的分子结合时，大量的结合能被释放回来，这些结合能又成为引发新的表面反应的动力，从而引发物体表面物质的化学反应而被清除。C.电子与物体表面的相互作用对物体表面的撞击一方面可以促进吸附在物体表面的气体分子分解或吸附；另一方面，大量的电子撞击有利于引发化学反应。由于电子质量极小，比离子的运动快多了。
等离子体清洗是利用离子、电子、受激原子、自由基及其与清洗表面污染物分子的活化反应去除污染物的过程。电子在清洗金属表面中的作用；等离子体中的电子与原子或分子碰撞形成受激中性原子或原子团（也称自由基），电晕处理站陶瓷放电电极可与污染物分子发生反应，使污染物离开金属表面。
等离子清洗机/等离子处理器/等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子脱胶、等离子涂层、等离子灰化、等离子处理和等离子表面处理。
LCD液晶玻璃等离子体清洗中的活化气体它是一种氧等离子体，电晕处理后的薄膜表面可以去除油性污垢和有机污染物颗粒，因为氧等离子体可以氧化有机物，形成气体。对电极端子和显示器进行清洗后，增强了偏光板的成品率，大大提高了电极端子与导电膜的附着力，从而提高了产品的质量和稳定性。随着LCD技术的飞速发展，LCD制造技术的极限不断受到挑战和发展，成为代表先进制造技术的前沿技术。
电晕处理站陶瓷放电电极
在下电极RF的作用下，在衬底表面发生跃迁，衬底图形区半导体器件的离子键断裂，与刻蚀蒸气产生挥发性物质，使蒸气与衬底分离，拉走真空管。在相同条件下，氧等离子体的清洗效果优于氮等离子体。如果需要蚀刻，蚀刻后需要清除污垢、浮渣、表面处理、等离子聚合、等离子灰化或任何其他蚀刻应用，我们可以根据客户要求生产安全可靠的等离子清洗机技术。
在其他方面，等离子体发生器的选择、功率的设置、真空室的尺寸以及电极结构的设计也有助于改善散热问题。。
等离子体是指部分或完全电离的气体，自由电子和离子携带的正负电荷之和完全抵消，宏观上表现为中性电性。等离子体又称等离子体，是由原子电离产生的部分电子和正电子被剥夺的原子组成的电离气态物质。它广泛存在于宇宙中，常被认为是除固体、液体和气体之外的第四种物质状态。等离子体可分为高温等离子体和低温等离子体两种。低温等离子体表面处理（点击查看详情）电离率更低，电子温度远高于离子温度，离子温度甚至可以相当于室温。
通常情况下，物质以固态、液态和气态三种状态存在，但在某些特殊情况下，还存在第四种状态，比如地球大气中电离层中的物质。处于等离子体状态的物质有以下几种：高速运动的电子；处于活化状态的中性原子、分子和原子团；电离原子和分子；未反应的分子、原子等，但物质作为一个整体保持电中性。在真空室内通过射频电源在一定压力下产生高能无序等离子体，利用等离子体轰击被清洗产品表面，达到清洗的目的。
电晕处理后的薄膜表面
简单来说，电晕处理后的薄膜表面主动式清洗台将多个晶圆一起清洗，优点是设备成熟，生产率高，而单片晶圆清洗设备逐片清洗，优点是清洗精度高，背面、斜面、边缘都可以进行有益清洗，一起防止晶圆之间的穿插污染。45nm之前，主动清洁台可以满足清洁要求，现在仍在使用；而45以下的工艺节点则依赖于单片晶圆清洗设备来满足清洗精度要求。在工艺节点数量不断减少的情况下，单片清洗设备是未来可预见技术下清洗设备的主流。
在真空室内，电晕处理站陶瓷放电电极通过射频电源在一定压力下产生高能无序等离子体，等离子体轰击被清洗产品表面，达到清洗目的。
