氧化铝陶瓷一般用作介质涂层，亲水性纳米氧化铝常用于加热器管、烙铁焊头等；铝和铜用作导电涂层，常用于电容器和避雷器。4.恢复尺寸涂层这类涂层主要用于修复因磨损或加工误差造成的零件。涂层材料的选择主要取决于零件的使用要求，常用在轴、盘等。5.气压驱动间隙控制涂层的机械效率取决于机器的密封能力，因此要求旋转和静止部件之间有非常紧密的配合间隙，常用于压缩机和涡轮部件。
在电镀Ni-Au金属膜层的氧化铝陶瓷基板、电镀CuNiAu膜层的高频板（聚四氟乙烯玻璃纤维增强5880层压板）等制作完成后，亲水性纳米二氧化硅制备电路组装之前，基板表面不可避免地会引入有机污染物，这将导致后续引线键合过程中键合不上或键合引线拉力值减小，使得可靠性下降。等离子清洗机可以通过离子轰击使基板和芯片表面的污染物杂质解吸附并去除杂质，使得引线键合拉力值提高，可靠性提高。 通过等离子轰击可以有效提高金丝键合的可靠性。
在Y2O3稳定的ZrO2热障涂层中，亲水性纳米氧化铝Al元素均匀分布在过渡层中，具有优良的抗氧化性。通过实验，采用低压等离子喷涂技术制备了Y2O3-ZrO2/NiCoCrAlY复合隔热膜，并在800～0℃进行了静态氧化试验。通过低压等离子处理器喷涂粘合层，制备的热障涂层具有优异的高温抗氧化性。另外，在高温下长期氧化后，结合层的铝元素扩散到陶瓷层/结合层之间的界面，形成均匀致密的两层氧化铝膜，可以起到保护作用。
光刻机的应用光刻机可广泛应用于微纳流体晶圆加工、微纳光学、微纳光栅、NMEMS器件等微纳结构器件的制备。刻蚀机是狭义的光刻刻蚀，亲水性纳米氧化铝首先通过光刻对光刻胶进行光刻曝光处理，然后对需要去除的部分进行刻蚀，再通过另一种方法进行处理。随着微细加工工艺的发展，蚀刻已成为微细加工的总称，广义上是通过溶液、反应离子或其他机械方法对材料进行剥离和去除的总称。
亲水性纳米氧化铝
这种方法属于可逆粘合，粘合强度不高。在制备生物芯片时，带有氧化层掩模和氧等离子体的 PDMS 对 PDMS 基板进行处理并将其粘合。这种方法实际上是PDMS和SIO2掩膜的组合，但是硅表面热氧化得到的SIO_2薄膜和PDMS的组合效果并不理想。用氧等离子体清洁表面层可以在室温和常压下成功地将硅晶片与 PDMS 和钝化层键合。
pet膜表面低温等离子处理等离子体处理pet膜性能影响：PET薄膜材料本体因具有较好的抗疲劳性、强韧性、高熔点、优异的隔离性能、耐溶剂性能以及出色的抗褶皱性能而广泛应用在如包装、防腐涂层、电容器制备、磁带甚至医药卫生等多种技术领域。。众所周知，等离子体技术在纺织上的应用始于20世纪50年代，我国从80年代开始对等离子体处理纺织品进行研究。
大气旋转plasma清洗机，即1套plasma发生器和plasma喷头。普通喷头上部将有装置孔，用户可依据需要制作加工装置治具，在流水线上任意搭配。大气喷射plasma清洗机(联线式)，即依据用户商品的制作加工目标、生产能力、生产线路和工艺特性等进行设计，可以直接组装在流水线上，多数情况下是按用户要求定制的。
该工序在孔眼清洗处理过程中，能很好地解决上述干式加工难题。在印刷线路板生产过程中，用plasma除去非金属残留是一种较好的选择。画图传递流程中，贴压干薄膜后的印刷线路板经过曝光度后，需要进行定影刻蚀，除去不用湿膜保护的区域，利用显影液将未曝光度的湿膜进行刻蚀，使未曝光度的湿膜被刻蚀掉。在这类定影流程中，由于定影缸喷嘴压力不均匀，局部未曝光度的湿膜未完全溶解，形成残留物。
亲水性纳米二氧化硅制备
由于内部采用真空（无菌）（抗菌）等离子清洗方式，亲水性纳米二氧化硅制备对腔体压力的负担有一定的要求，需要使用材质更好的腔体进行配置。 3.机械真空泵。真空等离子清洗机主要由机械泵组成，其主要作用是干燥真腔内的常压，使真腔内形成真空环境，进行等离子清洗。机械泵芯可分为干式和油式两种。干泵的能源主要是电力，而油泵则使用汽油或柴油作为能源。。
从真空等离子设备止回阀进入的汽体通常是洁净度相对较高的工艺汽体，亲水性纳米氧化铝所以气体压力调节和处理部件的基本结构主要由压力调节阀和过滤器组成。真空等离子设备止回阀的主要作用是将气压操纵在所需的压力范围内，过滤汽体中可能含有的杂质，以确保后端蒸汽流量计等部件的运作可靠性和汽体清洁度。当前真空等离子设备常用的气压调节和处理部件根据其结构特点可分成组合式和一体式。。
