这种低中性化低通量和高能量的粒子束导致了低的蚀刻速率和蚀刻选择比，附着力促进剂的量多少所以并不太适用于蚀刻工艺 与前两种方式不同，对于等离子表面处理机感应耦合式等离子体加平行碳板方式而言，中性粒子束是由负离子分离电子形成的。 在等离子脉冲技术功率关闭阶段，大量负离子产生并通过平行碳板，通过分离电子形成中性粒子束。
大气型等离子清洗机基于等离子的可控特性，用于附着力促进剂的原料采用单喷头或多喷头等方式对对象进行处理，几乎适用于工业领域。
用于大型腔体时，附着力促进剂的量多少具有等离子体能量高、等离子体密度低、无需匹配、成本低等特点。公约为5千瓦至20千瓦。激发频率为13.56MHz的等离子体为射频等离子体，其回波既有物理回波又有化学回波；常用的Z电源，其特点是等离子体能量低，但等离子体密度高。效果均匀，但成本略高。惯例是瓦特对0瓦特。
CO2 & RARR; CO + 0.5O2ΔH2 = 283KJ / MOL (4-6) 显然，用于附着力促进剂的原料式（4-5）和（4-6）都是吸热反应，其能量效率为&ETA；C2 = [(ΔH1 X YC2 XF) / P. ] X (4-7) & ETA; CO = [(ΔH1 X YCO XF) / P] 在 X (4-8) 方程中，P 是 PLASMA 的等离子体功率 (KJ / S)，F 是摩尔数流量 原料气（MOL/S）和P/F为能量密度（KJ/MOL）。
用于附着力促进剂的原料
等离子体技术存在着各种特定的粒子：处于各种激发态的电子、粒子、原子、分子和自由基。在这种特定颗粒的作用下，原料的表面特性会发生变化。等离子清洗机技术的特点是：（1）等离子清洗机对原料表层的作用深度只有几百埃，且不会干扰基材原料特性；（2）等离子清洗机可处理各种形状的表面层；（3）鉴于低温等离子体技术的独特性，近年来等离子体清洗机在原材料表面改性材料方面引起了越来越多的关注和兴趣。。
经等离子清洗后器材外表是枯燥的，不需要再处理，能够进步整个工艺流水线的处理功率；能够使操作者远离有害溶剂的损伤；等离子能够深化到物体的微细孔眼和洼陷的内部完成 清洗，因此不需要过多考虑被清洗物件的形状；还能够处理各种原料，特别适合不耐热以及不耐溶剂的 原料。这些优点，都使等离子体清洗得到广泛关注。目前，等离子清洗设备主要有批量式及在线式两种。
等离子体与材料表面的化学反应主要是利用等离子体中的自由基与材料表面发生反应。化学反应中常用的气体有氧气、氢气、CH4等。这种气体会发生化学反应。等离子体产生高活性自由基自由基的作用主要是化学反应过程中能量转移的“活化”。处于激发态的自由基与表面结合时变得更有活力，产生新的自由基。对象的分子。
在今天的文章中，我们一起来看看等离子表面处理设备的相关优势。
用于附着力促进剂的原料
如果您对等离子表面清洗设备还有其他问题，附着力促进剂的量多少欢迎随时联系我们（广东金莱科技有限公司）
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