通过电离氩气，薄膜的电晕处理强度产生的电晕被电磁场加速，撞击芯片镀银层和铝垫表面，可有效去除镀银层和铝垫表面的有机物、环氧树脂、氧化物、微颗粒等污垢，提高镀银层和铝垫的活性，从而便于压焊结合。电晕清洗介绍了利用Ar和H2混合气体对引线框架表面进行电晕清洗，可以有效去除表面杂质污染和氧化层，从而提高银原子和铜原子的活性，大大提高键合丝与引线框架的键合强度，提高产品成品率。
电晕表面治疗仪清洗后的IC芯片，浅谈聚酯薄膜的电晕处理可以增强键合线的强度，降低电路失效的概率：根据电晕仪器的过渡，可以实现材料表面的蚀刻、活化和清洗。它能明显提高这类表面层的粘度和电焊强度。低温电晕系统现在用于液晶显示屏、LED灯、IC芯片、pcb电路板、smt贴片机、贴片电感、柔性电路板、触控显示屏的清洗和蚀刻。采用电晕表面治疗仪清洗的IC芯片可以明显增强键合线的强度，降低电路失效的概率。
使用电晕可以轻松去除生产过程中的分子污染，薄膜的电晕处理强度从而显著提高封装的可制造性、可靠性和成品率。电晕可提高包装可靠性。经电晕处理后，可增加材料的表面张力，增强处理后物质的结合强度。电晕通常用于：1。电晕表面活化/清洗；2.电晕处理后的粘接；3.电晕刻蚀/活化；4.电晕脱胶；5.电晕涂层（亲水性、疏水性）；6.增强结合；7.电晕涂层；8.电晕灰化和表面改性。
4.氩气氩气是一种常见的惰性气体，浅谈聚酯薄膜的电晕处理所以用氩气进行电晕处理时，只发生物理反应，通过物理轰击就可以达到清洗和表面粗化的效果。基材在处理过程中不会被氧化，广泛应用于一些精密元件。5.四氟化碳四氟化碳是一种典型的用于电晕处理的腐蚀性气体，四氟化碳电离后的电晕中含有氢氟酸，氢氟酸可以腐蚀有机物的表面，去除有机物。
薄膜的电晕处理强度
电晕处理通常是导致表面分子结构改变或表面原子取代的电晕反应过程。即使在氧气或氮气等非活性气氛中，电晕处理在低温下仍能产生高活性基团。在此过程中，电晕还产生高能紫外线，与产生的快离子和电子一起，打破聚合物的键合键，产生表面化学反应应该提供所需的能量。只有材料表面的几个原子层参与到这一化学过程中，聚合物的本体性质才能保持变形的可能性。
由于氮化硅的流动性不如氧化物，蚀刻困难，用电晕器蚀刻可以克服蚀刻困难。电晕刻蚀是通过化学或物理作用，或物理和化学作用相结合来实现的。在反应过程中，反应室内的气体被辉光放电，从而形成含有离子、电子、自由基等活性物质的电晕。这些物质由于具有扩散特性，会吸附到介质表面，与介质表面的原子反应形成挥发物。同时，能量较高的离子会在一定压力下对介质表面进行物理轰击和蚀刻，去除再沉积反应产物和聚合物。
PCB电晕清洗设备可以在PCB预处理过程中改变dyne值和接触角，以达到预期效果。真空pcb电晕清洗设备选用真空室，使胶带与pcb骨架区之间没有导电通道。环形材料由绝缘材料制成，铝电晕与铝之间的导电路径仅限于PCB电路板区域。环面皮带与结构片之间有2mm的间隙。由于晶片和磁带底部没有电晕产生或存在，晶片表面会有底切和层状结构，没有溅射或磁带沉积。
当采用直流电压或高频电压作为电场时，由于电子的质量很小，容易在电池中加速，因此可以获得平均高达几个电子伏特的高能量。对于电子来说，这个能量对应的温度是几万度(K)，而弟子因为质量大，很难被电场加速，所以温度只有几千度。由于气体颗粒温度低（具有低温特性），这类电晕被称为低温电晕。
浅谈聚酯薄膜的电晕处理
另一方面，薄膜的电晕处理强度当压缩气体作为电晕发生器的气源时，其化学反应产生的电晕可以沉积在大量的氧离子和氧自由基上。
在其他情况下，薄膜的电晕处理强度氧自由基与物体表面的分子结构结合，产生巨大的粘附力，这些能量成为新的表面反应驱动，使物体表面发生化学变化将其移除。一般阳离子具有正电伪作用，阳离子有向负平面加速冲刷的趋势。这种现象使物体表面获得相当大的动能，足以冲击去除的表面：附着的颗粒物，我们称之为溅射现象，可以通过离子的撞击，极大地促进逃逸生物表面的化学变化。紫外具有很强的光能，能使附着在物体表面的物质分子键断裂分解。紫外线。
