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等离子体发生器能产生后一种等离子体的方法主要有：直流弧光放电法、交流工频放电法、高频感应放电法、低气压放电法（例如辉光放电法）和燃烧法。前四种放电都用电学手段获得，亲水性羟基集团是什么而燃烧则利用化学手段获得。 本篇关于等离子体发生器的文章出自北京 ，转载请注明出处。。等离子体发生器对工艺的冷却水有什么特殊要求：工艺冷却水是工业生产中常用的温控介质，它的使用范围很广，在等离子体发生器中的应用属于工艺设备的冷却。
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为什么半导体等离子体清洗设备中使用的铝合金腔体较多；半导体等离子体清洗设备常用的材料有石英玻璃、不锈钢和铝合金等，不同行业和应用领域的选择会有所不同。在半导体工业中，半导体等离子体清洗设备大多采用铝合金。为什么？半导体工业中使用的等离子体清洗设备在清洗和蚀刻过程中更注重真空反应室材料的选择。毕竟晶圆、支架等产品的加工环境要求更高。
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