经过多次实验，氨水对硅片表面的活化作用得出了用氧气和氩气处理的具体方案，并成功应用于后续的结合工艺。氧气和氩气都是非聚合物气体。等离子体与硅片表面的二氧化硅层相互作用后，这些活性原子和高能电子破坏了原有的硅氧键结构，使其不发生交联。表面上存在许多悬空键，因为被激活原子的电子结合能由于结合和表面活化而向更高能量方向移动，而这些悬空键与OH基团键合，以形式存在。形成稳定的结构。
广泛应用于印刷包装行业、光电制造行业、汽车制造行业、金属及涂装行业、陶瓷表面处理、电缆行业、狭窄塑料表面、数码产品表面、金属表面处理。。目前去除硅片表面颗粒的主要方法有两种:一种是标准洗涤(RCA)洗涤技术，硅片表面活化另一种是使用等离子洗衣机洗涤。在RCA洗涤技术中，大多数洗涤单元都是多槽浸渍洗涤系统。洗涤液1 (SC-1)(NH40H+H202)-HF+H20)液1和液2 (SC-2)(HCl+H202)。
与等离子刻蚀相比，氨水对硅片表面的活化作用湿法刻蚀工艺具有温度低、效率高、成本低的优点。湿法刻蚀工艺可以有效去除硅片上的磷硅玻璃和金属离子，钝化和清洗去除残留物。这提高了使用硅晶片的效率。与等离子蚀刻相比，湿法蚀刻系统是通过化学蚀刻溶液与被蚀刻物体之间的化学反应将其去除的蚀刻方法。大多数湿法蚀刻系统是各向同性蚀刻，不易控制。特点：适应性强，表面均匀，对硅片损伤小，几乎适用于所有金属、玻璃、塑料等材料。
目前用于等离子清洗机改性的反应性的气体有O2、N2、CO2、NH3和空气等，硅片表面活化非反应性气体有Ar、He等惰性气体。氨气(NH3)常温常压下为无色、有刺激性恶臭的剧毒气体，在空气中能发生爆炸燃烧。相对密度比空气轻，标准状况下，一体积水能溶解700体积氨气(饱和浓度35.28%)，氨水呈碱性，有腐蚀性。氨气用途广泛，用于生产硝酸、化肥、炸药等含氮化合物，还用作制冷剂。氨气是一种化学性质很活泼的气体。
氨水对硅片表面的活化作用
..电晕放电技术常用于卷材涂层工艺中。这对许多聚合物来说是有效且经济的。新开发的表面处理工艺根据实际应用将高频厂中的混合气体电离，结合直流磁控溅射技术，利用等离子处理技术对表面进行氧化、氮化、氨水处理或水解。 .提高材料的表面能及其结合性能。此外，所选材料的表面形貌对阻挡层的性能有显着影响。例如，光滑、平坦的基材很容易涂上高质量的阻隔层。。
..电晕放电技术常用于卷材涂层工艺中。这对许多聚合物来说是有效且经济的。新开发的表面处理工艺根据实际应用将高频厂中的混合气体电离，结合直流磁控溅射技术，利用等离子处理技术对表面进行氧化、氮化、氨水处理或水解。 .提高材料的表面能及其结合性能。此外，所选材料的表面形貌对阻挡层的性能有显着影响。例如，光滑、平坦的基材很容易涂上高质量的阻隔层。。
Wang和Ohtsuka采用催化活化法研究CO2氧化CH制C2烃反应，结果表明部分碱土金属氧化物如CaO具有较高的催化活性，可在一定程度上提高C2烃选择性。在等离子体条件下考察了MgO/Y-Al2O3、CaO/Y-Al2O3、SrO/Y-Al2O3和BaO/Y-Al2O3作用下CO2氧化CH4制C2烃反应(表4-2)。
等离子表面清洗设备的应用： 1、清洗光学器件、电子元件、 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片，移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石等; 2、牙科领域：对硅酮压模材料和钛制牙移植物的预处理，增强其浸润性和相容性; 3、医用领域：修复学上移植物的表面预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性，医疗器械的消毒和灭菌; 4、改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力; 5、去除金属材料表面的氧化物; 6、使玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面活化，增强其表面粘附性、浸润性、相容性; 7、高分子材料表面修饰。
氨水对硅片表面的活化作用
举例来说，硅片表面活化很多人都会有这样的体验：自动洗衣机的手柄在使用一段时间之后就会脱落，这极大地影响了使用体验。由于PP把手与自动洗衣机机身粘接力不足，在日常使用中，若采用深圳等离子处理设备表面处理技术，可使自动洗衣机手柄与自动洗衣机机身间形成活化，提高PP手柄与自动洗衣机机身间的牢度和耐久性。今日 主要向大家介绍自动洗衣机和电磁炉等离子技术的应用。
在250 ~ 800 nm的波长范围内，氨水对硅片表面的活化作用等离子体作用下甲烷转化过程中产生的主要活性物质有CH (430.1 ~ 438.7nm)、C (563.2 nm, 589.1 nm)、C2 (512.9 nm, 516.5 nm)和H (434.1 nm, 486.1 nm, 656.3 nm)。在等离子体放电区域，首先产生高能电子。
