随着世界对环境保护的极大兴趣，IC等离子体清洗仪这一点变得越来越重要。第四，无线电范围内的高频产生的等离子体不同于激光等直射光。等离子的方向不强，深入到细孔和凹入物体的内部完成清洗操作，所以不需要考虑被清洗物体的形状。此外，这些难清洗部位的清洗效果等同于或优于氟利昂清洗。五。等离子清洗可用于显着提高清洗效率。整个清洗过程可在几分钟内完成，其特点是良率高。 6、等离子清洗需要控制的真空度在 PA左右，这个清洗条件很容易达到。
然而，IC等离子体清洗使用等离子活化清洁工艺，即使污染物残留在非常复杂形状的外表面上，弱化学键也很脆弱，但仍可以去除。等离子体可以去除有机物、矿物质、细小细菌和其他污染物。这些污染物是由储存或预制造过程中化学转化形成的高蒸气压挥发性气体形成的，并附着在材料的外表面。的。注塑添加剂、硅基化合物、脱模剂和部分吸附的污染物可以通过等离子清洗从塑料、金属和陶瓷的外部有效去除。
等离子清洗剂包括石油化工、制药工业、饲料和肥料处理厂、畜牧场、合成纤维厂、制革厂、纸浆厂、污水泵站、各种污水处理厂、涂料、食品灌装厂、皮革处理、可与VOCS一起使用.感光材料、汽车制造、公厕、粪便转运站等行业的异味、异味等污染问题。等离子清洁剂产生的电子、离子和自由基在金属表面清洁过程中的作用 金属表面清洁过程中的作用 在等离子清洁剂中，IC等离子体清洗仪电子与原子或分子的碰撞会产生激发态。
等离子体物理学的发展前景 自 1920 年代以来，IC等离子体清洗机器特别是 1950 年代以来，等离子体物理学已经发展成为一个非常活跃的物理学领域。在实验方面，建成了包括核聚变实验装置在内的许多装置，发射了许多科学卫星和空间实验室，获得了大量的实验数据和观测资料。理论上，利用粒子轨道理论，电磁流体力等离子体的许多性质和动力学规律已被科学和动力学理论阐明，数值实验方法也得到发展。
IC等离子体清洗机器
大型和小型企业都可以使用此类设备。 Plasma-grafted Plasma-grafted 等离子诱导的等离子接枝可以使用不同的官能团（-NH2、-COOH 等）在基材表面上接枝和共聚。这类接枝表面不仅可以作为微生物或生物医学工程原料的表面层，还可以作为表面接枝的活性点，进一步固定化PEO（聚氧乙烯）等材料的生物分子，也可以使用。
SIH4 + SIH3 + N2 用于氮化硅沉积。温度为300℃，沉积速率约为180埃/分钟。非晶碳化硅薄膜是通过添加硅烷和含碳共聚物得到SIXC1+X:H得到的。其中 X 是 SI / SI + C 的比率。硬度为2500kg/mm2以上。等离子将聚合物薄膜沉积在多孔基材上，以形成选择性渗透膜和反渗透膜。可用于分离混合气体中的气体，分离离子和水。还可以组合超薄膜以适应分子大小、溶解度、分离等多种选择性。
2、等离子火焰加工机的加工方法等离子火焰加工机由等离子发生器、气体传输系统、等离子喷嘴组成。工作原理是等离子产生高压高频能量，通过光放电产生低温等离子，通过压缩空气将等离子火焰处理装置喷在塑件表面，去除塑件表面的静电。零件。是要做的。去除塑料零件表面的碳氢化合物污渍（如油和塑料材料的辅助添加剂）。
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