反应类型可以分为物理反应和化学反应，粉末涂料附着力增强的原因物理反应主要是以轰击的形式使污染物脱离表面，从而被气体带走;化学反应是活性粒子与污染物发生反应，生成易挥发物质再被带走"。 在实际使用过程中，通常使用Ar气来进行物理反应，使用O2或者H2来进行化学反应。plasma等离子活化效果通常用滴水实验来直观反应，等离子清洗前接触角约为56°，等离子清洗后表面接触角约为7°。
等离子清洗机制 除了大量的气体分子、电子和离子之外，粉末涂料附着力增强的原因还有大量的受激中性原子、自由基和等离子发出的光。等离子清洗是离子、电子、激发原子、自由基及其发射光各自与待清洗表面上的污染物分子反应，最终去除污染物的过程。电子在清洁金属表面过程中的作用在等离子体中，电子与原子或分子的碰撞产生激发的中性原子或原子团（也称为自由基），与污染物相互作用增加。来自金属表面的污染物。
等离子清洗设备（plasma cleaner）也叫等离子表面处理仪或等离子清洗机，粉末涂料附着力增强的原因是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁等目的。
低温等离子清理指的是极度活化的低温等离子在电磁场的帮助下形成专向位移，附着力增强剂油漆与孔内的钻污形成气固两相流化学变化，与此同时形成的废气物质和一部分未形成反应的颗粒被抽气泵排出去。
粉末涂料附着力增强的原因
等离子蚀刻（点击查看详情）是去除表面种子的重要工艺。等离子蚀刻工艺具有化学选择性，仅从表面去除一种材料，而不会影响其他材料。或各向同性，仅去除沟槽底部的材料，而不影响侧壁上的相同材料。等离子蚀刻是唯一一种工业上可行的技术，可以从物体表面各向同性地去除一些材料。等离子刻蚀是现代集成电路制造技术中必不可少的工艺工程。用氟原子进行硅蚀刻是目前研究最多的蚀刻系统。
附着力增强剂油漆
