其组成部分主要包括电极、有机半导体、绝缘层和衬底，福建真空等离子清洗设备上旋片真空泵厂家这些对OFET性能有非常重要的影响。电极、有机半导体、绝缘层和基板组件都可以用等离子等离子体处理以提高材料性能。 1、基材——等离子等离子处理，去除基材表面的杂质，提高表面活性该板通常位于晶体管的底部，主要负责支持该设备。材料包括：玻璃、硅片、石英、聚碳酸酯（PC）、聚萘（PEN）、聚酰亚胺（PI）、聚乙烯（PET）等可用作OFET的基板材料。
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等离子涂镀聚合 在涂镀中两种气体同时进入反应舱，福建真空等离子表面活化价格气体在等离子环境下会聚合。这种应用比活化和清洗的要求要严格一些。典型的应用是保护层的形成，应用于燃料容器、防刮表面、类似聚四氟(PTFE)材质的涂镀、防水镀层等。涂镀层非常薄，通常为几个微米，此时表面的疏水性非常好。
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未经过氢等离子体表面处理仪处理的Si-C/Si-O谱峰强度之比(面积之比)为0.87。经过处理的Si-C/Si-O的XPS谱峰强度之比(面积之比)为0.21,与没有经等离子体处理的相比下降了75%。经过湿法处理的表层Si-O的含量明显高于经过等离子体处理的表层。高能电子衍射(RHEED分析发现氢等离子体表面处理仪处理后的碳化硅表层比传统湿法处理的碳化硅表层更加平整，而且处理后表层出现了(1x1)架构。
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