工件表面上的污染物,如油脂、通量,胶卷,脱模剂,冲压油,等等,很快就会被氧化成二氧化碳和水,并将由真空泵抽离,从而达到清洗的目的和改善表面渗透和附着力。低温等离子体处理只涉及材料的表面，二氧化硅等离子体清洗设备不影响材料的性能。由于等离子体清洗是在高真空条件下进行的，等离子体中各种活性离子自由路径长，穿透性和渗透性强，可以用细管和盲孔等复杂结构进行处理。
等离子体处理过程包括化学反应和物理反应。化学过程:在化学等离子体过程中，二氧化硅plasma表面处理自由基与被清洗物体表面的元素发生化学反应的反应。这些反应的产物是非常小的、易挥发的分子，可以用真空泵泵出。在有机清洁应用中，主要的副产品通常包括水、一氧化碳和二氧化碳。基于化学反应的等离子体清洗，清洗速度快，选择性好，是去除有机污染物最有效的。缺点是氧化发生在表面。
显然，二氧化硅plasma表面处理途径3对于等离子体催化作用下CH4和CO2的转化无疑是重要的。催化剂在等离子体中的活化主要依赖于与高能电子的碰撞。由于催化剂性质不同，活性不同，对甲烷和二氧化碳的吸附和活化能力也不同。从以上实验结果可以看出，在同一等离子体的作用下，NiO/ Y-al2o3对甲烷和二氧化碳的吸附和活化能力很强，CH和二氧化碳的转化率较高。相反，Co2O3/ Y-al2o3对甲烷的吸附和活化作用弱，CH4转化率低。
大气等离子清洗机可以去除表面看不见的有机污染物，二氧化硅等离子体清洗设备肉眼看不见的，工件表面的薄膜层。一次超细清洗可解决工件表面粘附问题。例如清洗时，工作气体往往是氧气，它被加速的电子轰击成氧离子、自由基，氧化性极强。零件表面的污染物，如润滑脂、助焊剂、光敏膜、脱模剂、冲床油等，很快就会被氧化成二氧化碳和水，通过真空泵排出，达到清洗表面的目的。低温只触及数据的表面，不影响数据主体的性质。
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最后，它会分解成像水和二氧化碳这样的简单分子。在其他情况下，当自由基与表面分子结合时，它们会释放大量的结合能，这些结合能反过来成为新的表面反应的驱动力，导致表面上的物质被化学去除。
等离子体包括原子、分子、离子、电子和活性基团，被激发的原子、分子和激活的自由基，这些粒子的能量和活度很高，这种能量足以摧毁几乎所有的化学键，能与任何显示物体外表产生化学反应，让化学键被打开并与修饰过的原子结合等活性很高的物质，数据表面的亲水性得到了很大的提高。同时,新化学反应的石油和其他有机大分子表面的数据生成小分子气体,如二氧化碳,水和其他气态物质,由真空泵抽走,从而达到分子水平上清洁的表面数据。
大气等离子清洗机在塑料行业中的应用如何:随着高新技术产业的快速发展，对产品使用的各种工艺的技术要求越来越高。等离子清洗机表面处理技术的出现，不仅提高了产品性能，提高了生产效率，而且达到了安全环保的效果。等离子清洗机的表面处理技术可应用于材料科学、高分子科学、生物医学材料、微流体研究、微电子机械系统研究、光学、显微镜和牙科保健等领域。
通过等离子体处理N2、NH3、O2、SO2等可以改变聚合物材料的表面化学成分，引入-NH2、-OH、COOH、SO3H等新的官能团。这些官能团可使聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚四氟乙烯等完全惰性基材变成官能团材料，可改善表面极性、渗透性、粘结性、反应性，大大提高其使用价值。与氧等离子体不同，低温等离子体处理后，可将氟原子引入基板表面，使基板疏水。
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形成装置及影响因素热等离子体一般是由常压气体电晕放电产生，二氧化硅plasma表面处理而冷等离子体是由低压气体辉光放电产生。热等离子体设备[4]利用带电体尖端(如刀或针尖和狭缝电极)引起电场不均匀，称为电晕放电。电压和频率、电极间距、加工温度和时间都影响电晕处理效果。随着电源电压和频率的增加，处理强度高，处理效果好。但是，如果工频过高或电极间隙过宽，则电极之间会发生过多的离子碰撞，造成不必要的能量损失。
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