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气体辉光放电时,从阴极发出的电子经过电场.加速，获得能量撞击气体分子,使气体分子激发,在等离子区产生了大量的正离子(等离子区任何位置的电子浓度和正离子浓度相等,所以称等离子区),这些正离子在电场作用下加速向阴极移动,轰击靶材和薄膜表面。Ar的作用是维持正常的辉光放电,同时氩离子(正离子)也不断轰击薄膜表面,产生级联碰撞,将油污、灰尘等污物分子溅射出去,清洁薄膜表面。
1. CO2分子与高能电子的非弹性碰撞； 2.系统中的 CHx 和 H 等活性物质会激活 CO2； 3.催化剂吸附 CO2 分子，与 C-0 结合，促进 CO 键的断裂和 CO。并产生活性O原子。显然，在等离子体催化的联合作用下，路径 3 对于 CH4 和 CO2 的转化无疑是重要的。等离子体中催化剂的活化主要取决于与高能电子的碰撞。
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..去除的污染物可以是有机物、环氧树脂、光刻胶、氧化物、颗粒污染物等。针对不同的污染物，广东等离子表面处理机价格需要使用不同的清洁工艺。根据所选择的工艺气体，等离子清洗可分为化学清洗、物理清洗和物理清洗。化学清洗。 1化学清洗：表面作用主要是化学反应等离子清洗，又称PE。氧等离子体将非挥发性有机化合物化学转化为挥发性 H2O 和 CO2。氢等离子体可以通过化学反应去除金属表面的氧化层来清洁金属表面。
