1.清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。2.清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。3.移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。4.清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。5.清洗半导体元件、印刷线路板。6.清洗生物芯片、微流控芯片。7.清洗沉积凝胶的基片。8.高分子材料表面修饰。9.牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
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（活）化原子态氧能迅速将聚酰亚胺膜氧化成挥发性气体，贵州rtr型真空等离子设备厂家哪家好由机械泵抽走，从而去除硅块上的聚酰亚胺膜。电浆去胶的优点是去胶操作简单，去胶效率高，表层清洁，无划痕，成本低，环保。 等离子去胶机通常选用电容耦合等离子体平行面板反应釜。在平行面电极反应釜中，反应离子腐蚀腔选用阴极面积小、阳极面积大的不对称设计，腐蚀性物质被放置在面积小的电极上。
影响引线键合的因素包括封装设计、引线布局、引线材料与尺寸、模塑料属性、引线键合工艺和封装工艺等。影响引线弯曲的引线参数包括引线直径、引线长度、引线断裂载荷和引线密度等等。底座偏移底座偏移指的是支撑芯片的载体（芯片底座）出现变形和偏移。塑封料导致的底座偏移，贵州rtr型真空等离子设备厂家哪家好上下层模塑腔体内不均匀的塑封料流动会导致底座偏移。影响底座偏移的因素包括塑封料的流动性、引线框架的组装设计以及塑封料和引线框架的材料属性。
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等离子清洗机的典型主机电源是频率为13.56 KHz的主机电源，它可以产生高等离子体密度、软能量和低温。典型功率1-2千瓦，大功率5千瓦，小功率几百瓦。功率40kW，小功率几百千瓦，多功率40KHz，中频功率40KHz，中频等离子清洗机主电源，大功率5kW，小功率几百KHz，多功率40。KHz，中频功率40KHz，能量柔和，温度低，功率一般1-2kW，大功率5kW，小功率几百千瓦，小功率几百KHz。
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