偏滤器利用磁场来限制等离子体的位置。附加线圈工作中的电流磁场在这种情况下，双面电晕处理发泡膜磁界面外的磁力线不闭合，等离子体被引导到偏压室，在那里带电粒子被中和并被泵送走。分流器可以用来减少等离子体与壁面的相互作用，避免固体孔径。冷气毯。也就是说，在高温等离子体与壁面之间形成一层致密的低温等离子体作为屏蔽，以减少两者之间的相互作用。。
在低压下，那里双面电晕处理发泡膜放电过程发生在所谓的辉光区，那里等离子体几乎占据了整个放电室，这与常压下灯丝放电模式下观察到的现象形成鲜明对比。在低压辉光放电中，放电室大部分充满准中性等离子体，等离子体与放电室壁之间存在一层薄薄的空间正电荷层。器件壁表面的这些空间正电荷层，或者&ldquo；鞘层&rdquo；其空间尺度一般小于1厘米。鞘层是由于电子和离子之间迁移率的差异。等离子体中的电位分布倾向于限制电子并将正离子推入鞘层。
这反过来又导致相反方向的电荷分离，那里双面电晕处理发泡膜产生反向返回电场，在那里电子再次被拉回并冲过平衡位置。重复地，电子在平衡位置附近集体来回振荡。由于离子质量大，对电场的变化响应较慢，因此可视为静止不动，仍充当均匀正电荷返回。当这种中性在等离子体中被打破时的空间电荷振荡。
但这些改良纤维普遍存在表面润滑性和化学活性低的缺陷，那里双面电晕处理发泡膜难以在纤维与树脂基体之间建立物理锚固和化学键合效应，导致复合材料界面粘接性差，进而影响复合材料的一般功能。此外，商品纤维材料表面会有一层有机涂层、微尘等污染物，这些污染物主要来自纤维制备、灌浆、运输、储存等过程，会影响复合材料的界面结合功能。
双面电晕处理发泡膜
电压降与电极比表面积的关系为VA/Vb=(Sb/Sa)&α；和指数&α；在假设的理想状态下，范围在1.0到2.5之间，因此这个值可以作为参考，但仍缺乏作为依据。在圆形电容耦合高频放电过程中，指数&α；也可视为在上述范围内。下图为等离子体表面处理设备圆柱形射频放电极板电压示意图。工业应用的圆柱耦合射频等离子体表面处理设备常采用圆柱石英玻璃作为其反应室。
此外，由于低温在线等离子体表面清洗设备形成的等离子体是电中性的，因此在处理过程中不会对产品表面造成损伤。这种等离子体处理工艺采用/等离子体清洗机，也可以在线实现，不需要溶剂，更加环保。。气体放电等离子体及其在低温常压等离子体清洗机中的应用；低温常压等离子体清洗机的等离子体特性与放电特性密切相关，放电特性与激励电源、放电方式和产生条件有关，低温常压等离子体清洗机产生等离子体的气体放电形式有多种。
自由基在化学反应过程中的作用主要是势能转移的（激发）活性，处于（激发）状态的自由基具有很高的势能，因此，与材料外表面的分子结合容易形成新的自由基，新形成的自由基也是不稳定的高能形式，分解反应的可能性很大，它们变成小分子的同时又形成新的自由基，这一反应过程可以继续下去，分解成水、二氧化碳等简单分子。
在半导体封装工业中，包括集成电路、分立器件、传感器和光电封装等，通常使用铜引线框架。为了提高粘接和封装的可靠性，铜框架通常通过等离子清洗机进行几分钟的处理，去除表面的有机物和污染物，增加其表面的可焊性和附着力。。等离子体碳纳米管的改性及其在污染物监测和治理中的应用；等离子体改性是一种处理时间短、无化学污染、不破坏材料整体体积结构、只改变材料表面性质的新工艺。
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