由于等离子体辉光放电是由真空紫外光产生的，烘烤温度对附着力的影响对蚀刻速率有积极的影响，且气体中含有中性粒子、离子和电子。中性粒子具有与温度和电子能量相对应的较高温度，称为非平衡等离子体和冷等离子体。主要表现为电中性(准中性)气体具有较高的自由基和离子活性，其能量足以打破所有化学键，在材料表面发生化学反应。一般来说，等离子体中粒子的能量是几十电子伏。
放电过程尽管电子温度很高,但重粒子温度很低,系统介绍了低温的状态,所以称为低温等离子体气体(惰性气体)在一定电压和频率下的电场效应可以电离或分解,攻击包括电子、各种离子,等离子体中的原子和自由基。
太阳和恒星不断地发射这样的等离子体，温度对附着力的影响其粒子的温度达到数千万甚至数亿摄氏度，可以用于能源领域的受控核聚变。低温等离子体可在室温下发生，其电子温度可达数千甚至数万摄氏度，可激发、解离、电离、结合分子或原子。低温等离子体可分为热等离子体和冷等离子体。
它在能量等离子体与物质表面的相互作用中起重要作用。氮气作为惰性气体，烘烤温度对附着力的影响主要用作等离子清洗过程中的非反应性气体。氮等离子处理可以提高材料的硬度和耐磨性。在某些情况下，氮气也可以作为反应气体，形成氨化合物。氮气通常作为非反应性气体用于等离子清洁器中。。关于等离子清洗机的电源频率，一般来说，频率越高，等离子表面处理效果越好。有数据证明等离子清洗机的电场强度和频率对电离的促进和放电和电子运动的维持有很大的影响。
烘烤温度对附着力的影响
等离子体设备被用于制造各种电子元器件:20世界初国际高新技术产业的快速发展,等离子体设备的应用越来越广泛,已经进入了许多高科技领域,占据核心技术的位置,等离子体设备清洗技术对工业的发展和现代文明的影响比较大，最早出现在电子信息产业，特别是半导体和光伏产业。等离子设备已经应用到各种电子元器件的制造中，可以肯定的是，没有等离子设备及其清洗技术，就不会有今天发达的电子、信息、通信制造业。
-等离子清洗机清洗半导体材料晶圆:在半导体材料生产过程中，几乎每一道工序都需要清洗，循环清洗质量严重影响设备性能。由于循环清洗是半导体制造过程中的关键和重复工艺，其工艺质量将直接影响到设备的良率、性能和可靠性，国内外重点企业和研究机构将继续对清洗工艺进行研究。等离子清洗机作为一种现代干洗技术，具有低碳环保的特点。如今，随着电子光学工业的快速发展，等离子体清洗机在半导体行业的应用越来越多。
在半导体生产过程中，每一道工序都需要进行清洗，而晶圆清洗的质量对设备的性能有很大的影响。正是由于晶圆清洗是半导体制造工艺中重要且频繁的一步，其工艺质量将直接影响设备的良品率、功能和可靠性，因此国内外各大公司和研究机构对清洗工艺的研究不断进行。等离子清洗作为一种先进的干洗技能，具有绿色环保的特点。随着微电子行业的迅速发展，等离子体清洗机在半导体行业中的应用也越来越多。
这是一个称为“电离”的过程。此时，这种物质被戏称为离子等离子体，因为它变成了由带正电的原子核和带负电的电子组成的均匀“糊状物”。这些离子等离子体的正负电荷总量大致相同。它被称为等离子体，因为它是电中性的。等离子去磁对晶圆加工的影响 等离子可分为高温等离子和低温等离子两种。如今，低温等离子体广泛应用于各种生产领域。大家都知道，使用等离子脱胶机（等离子清洗机）时，脱胶气体是氧气。
烘烤温度对附着力的影响
过程气体的压力值是等离子设备的重要工作参数之一，烘烤温度对附着力的影响气压值过高或过低，都会对处理效果产生很大影响，而压力值过高或过低则会影响处理效果，而压力值过高或过低则会造成设备的不可逆损失。低温等离子表面处理机配有报警灯，使操作者更容易观察到设备目前的状况。
