问题 3：人们为什么要研究激光-等离子体相互作用？目前，高压等离子体刻蚀研究激光-等离子体相互作用的主要动力是激光和等离子体的惯性约束聚变。我们的化石能源有一天会耗尽吗？能源短缺，新能源技术研究迫在眉睫。惯性约束聚变的原理是利用激光将等离子体限制在高温、高压、高密度的狭小空间内，等离子体中的原子核相互碰撞聚集，引起聚变发射。大量的能量。聚变没有聚变，是一种比较清洁的能源。太阳可以发出光和热，因为聚变仍在继续。
如今，高压等离子氢化四氯化硅制备多晶硅这种方法开始从人们的视野中消失，并逐渐退出历史舞台。目前比较流行的是电晕机加工方法。电晕机也称为火焰机和火花机，其原理类似于燃烧。电晕处理方法通常使用高频、高压电源在放电工具架和刀片之间的间隙中产生放电，产生低温等离子体区域并改性塑料薄膜材料的表面。在这个过程中，氧气也被电离产生臭氧。它氧化塑料薄膜的表面并将其从非极性转变为极性。此外，电子的冲击使薄膜表面变得粗糙，增加了表面的张力。
其原理是利用高频高压电晕放电（5000-15000V/m2高频交流电压）对被处理塑料表面产生低温等离子体。塑料表面与自由基发生反应，高压等离子体刻蚀聚合物发生交联。更粗糙的表面和对质子溶剂更好的润湿性——这这些离子通过电击渗透到印刷材料的表面，渗透并破坏其分子结构，并使其处理过的表面分子发生氧化和极化，离子冲击侵蚀表面和基材的表面，增加表面附着力。等离子处理器用于在线加工，可用于各种生产线上的曲面加工。
等离子清洗机的处理可以提高材料表面的润湿性，高压等离子氢化四氯化硅制备多晶硅进行各种材料的涂镀、电镀等操作，提高粘合强度和粘合强度，去除有机污染物，油类和油脂增加。同时。等离子表面处理机等离子清洗机是一种新型的印刷包装前辅助设备，可以提高表面能和附着力。等离子表面处理设备，也称为等离子清洗机，向放电电极施加高频和高压。被处理物的表面分子直接或间接作用，在表面分子链中生成羰基、含氮基团等极性基团，大大提高了表面张力。
高压等离子体刻蚀
2、塑料薄膜材料预处理的电晕处理方法 电晕处理方法通常采用高压和高压电源，电晕放电发生在放电刀架和刀片之间的间隙，低温等离子区发生和材料的塑料薄膜变了。在这个过程中，氧气也被电离产生臭氧，臭氧氧化塑料薄膜的表面并将其从非极性转变为极性。此外，电子壳可以使表面变粗糙。改善薄膜和表面张力。电晕处理比较简单实用，可以连续生产，但放电均匀性差，处理效果有限，薄膜易碎。电晕处理一直难以控制和克服。
生物污染（降低）涂层质量。等离子处理是依靠高频源在真空状态下产生的高压交流电场将工艺气体振动成高能离子，从而分解物品表面的颗粒污染物。然后用工作气体将其除去。实践证明，这种方法可以有效去除硫酸阳极氧化膜表面的粘合剂转移等污染物。如今，等离子处理已广泛应用于半导体和光电子行业，并逐渐在光学、机械、汽车、航空航天、聚合物和污染控制等行业得到越来越广泛的应用。
蚀刻副产物可被 350°C 以上的高温激活，但相关的磁性能也显着降低。一般来说，后等离子清洗机刻蚀工艺（如后He/H2刻蚀工艺）、湿法清洗工艺优化、多工艺集成机（薄膜沉积、刻蚀和清洗模块位于同一平台上）。真空环境始终保持）改善。卤素气体的替代方法是使用非腐蚀性蚀刻气体并主要通过物理冲击进行磁性隧道结蚀刻。电感耦合等离子体在等离子清洗机中具有较高的等离子密度，是常用的。
【等离子设备的刻蚀效果】 刻蚀效果产物中的高分子材料[C、H、O、N]通过与等离子[O+OF+CF3+CO+F+...]的化学反应去除（去除）。 ）去做。残留污染物。 [等离子设备的交联效果] ・在稀有气体中表现出交联效果。单键断裂并重新排列以形成双键或三键，或形成氧自由基和另一个键的组合的键。 【等离子装置的烧蚀作用】 烧蚀作用是在聚合物表面受到冲击时，去除与聚合物链的弱键。
高压等离子体刻蚀
通讯、汽车、消费电子、光电、纺织、半导体和精密制造在表面涂层、表面胶合和表面清洁方面尤为突出。真空等离子清洗系统的优点 真空等离子清洗系统的优点 各向异性反应离子刻蚀可以独立完成清洗和活化任务。等离子限制环将等离子直接聚焦在晶圆上，高压等离子氢化四氯化硅制备多晶硅加速蚀刻，提供均匀的等离子涂层，并将等离子与晶圆本身隔离，而不是与周围区域隔离。由于可以提高蚀刻速度，因此无需提高电极温度或增加吸盘偏压。
更常用的方法称为 Czochralski 方法。如下图所示，高压等离子体刻蚀将高纯多晶硅置于石英坩埚中，由周围的石墨加热器连续加热，使温度保持在1400℃左右。通常，炉内的空气是惰性气体并熔化。它会引起不需要的化学反应而不会引起多晶硅。为了形成单晶硅，控制晶体取向：用多晶硅熔体旋转坩埚，将晶种浸入其中，用拉杆反方向旋转晶种，用硅熔体慢慢垂直拉动。 ..熔融的多晶硅附着在晶种底部，沿晶种晶格排列方向连续生长。
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