以下让 介绍常压等离子清洗机与真空等离子清洗机结构.常压等离子清洗机系统由三大主要部分组成：1、主机连接电源连接冷却的处理气体高射频电压等离子源控制模块气体控制模块前面板的操作控制系统。2、传输气体和能量的柔性导管。3、等离子喷头：由中间电极、外部电极和绝缘区域组成。 ● 高压射频发生器将常电压转变成高电压（超过10KV），附着力划痕试验中断处理这对于形成高压放电是必须的。
一般清洗处理持续几十秒到几分钟。清洗完毕后切断高频电压，附着力划圈法 级别图并将气体及汽化的污垢排出，同时向真空室内鼓入气体，并使气压升至一个大气压。给一组电极通上射频电源，电极之间形成高频交变电场，区域内气体在交变电场的激荡下，形成等离子体，活性等离子对物体表面进行物理轰击与化学反应双重作用，使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质，经过抽真空排出，而达到表面处理的目的。。
该技术在半导体制造领域应用较早，附着力划圈法 级别图是一种必不可少的半导体制造工艺。因此，在IC加工中是一项长期而成熟的技术。因为晕等离子处理机产生的等离子体是一种高能、高活性的物质，对（任）何有（机）材料等都有很好的蚀刻（效）果，电晕等离子处理机产生的等离子体的制作是干法处理的，不会造成污染，所以近年来已经被大量应用于半导体产品的制作。
今天给大家普及一下等离子清洗电源的频率知识，附着力划圈法 级别图40KHZ电源，也就是俗称的中频电源，简单的说能量高，但等离子密度低。真空等离子清洗基本选用中频电源。这是由于真空腔体尺寸大（通常大于 L，电极板数量较多，相对于射频中频来说是高输出电源。5000W、10KW、20KW等本身更稳定）产生的等离子体中的分子和离子具有高动能，高渗透性，强调物理反应。
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等离子体辉光放电由于其电子能量和电子密度高，可以通过激发碰撞产生可见光而被提及。下面通过比较常见的等离子清洗机卧式电极结构来了解一下。真空等离子体吸尘器的辉光放电通常需要在低压环境下进行。为了在大气压下产生辉光放电，需要一定的外部电路条件和阴极的持续冷却。辉光放电的特征参数如下表所示。。
直接等离子体具有较低浸蚀但工件却暴露在射线区。顺流等离子是种较弱的工艺，它适合去除厚为10-50埃的薄层。 在射线区或等离子中，人们担心工件受到损坏，目前，这种担心还没有证据，看来只有在重复的高射线区和延长处理时间到60-120分钟才可能发生，正常情况下，这样的条件只在大的薄片及不是短时的清洗中。。
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批量配气系统中集中储气供气的优点一是供气可靠稳定，二是减少了杂质颗粒的污染源，二是减少了日常供气中的人为干扰。常见的气体通常分为惰性气体、还原性气体和氧化性气体，如表 6.1 所示。
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