3、玻璃和陶瓷也可以被激活：玻璃瓶和陶瓷瓶的性能与金属相似，低温等离子金属表面活化有效时间较短，通常用压缩空气作为工艺气体。效果验证可以把经过plasma真空等离子清洗机处理和未经过处理的工件浸入水中(极性溶液)，活化效果给人留下极为深刻的印象。对未经处理的零件，形成正常形状的液滴。经过处理的零件的处理部分会完全被水浸湿。。
四、等离子设备中的氧化物当暴露于含氧和水的环境中时，金属表面活化剂的作用半导体晶片的表面会形成一层自然氧化层。这种氧化膜不仅会干扰半导体制造中的许多步骤，而且它还含有某些金属杂质，在某些条件下会转移到晶圆上，形成电缺陷。这种氧化膜的去除通常通过浸泡在稀氢氟酸中来完成。。典型的等离子设备适用于精密电子、半导体、PCB和高分子材料等高端产品的零部件。如果这些（高级）材料没有得到适当的清洁，它们很容易造成产品损坏。
这里需要注意的是，低温等离子金属表面活化过长的处理时间并不总能提高材料的表面活性。您需要提高生产效率，同时最大限度地缩短处理时间。这对于大规模生产尤其重要。实际上，影响等离子清洗技术处理（效果）的因素主要有工艺温度、气体分布、真空度、电极设置、静电防护等。等离子清洗技术 加工工艺的主要特点是金属、半导体、氧化物、大多数聚合物、有机聚合物（聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烯、环氧树脂、聚四氟乙烯），任何能达到表面的材料都可以清洗。
因而为提高此类纺织品的尺寸稳定性和可洗性（尤其是可机洗性），低温等离子金属表面活化常需进行防缩绒加工。利用低温等离子体的刻蚀和化学反应作用，可有效去除或削弱鳞片层的定向摩擦效应，可到达或提高织物的防缩绒性。。
低温等离子金属表面活化
等离子框架处理器可以增强金属有机物，化学气相沉积系统可以在低温下产生低能离子和高电离、高浓度、高活化、高纯度的氢等离子体，从而去除这些杂质增加。在低温下为 C 或 OH-。湿法清洗和等离子处理后的 RHEED 图像显示湿法处理的 SiC 表面散布。这表明湿处理后的 SiC 表面不平整，有局部突起。等离子处理的 RHEED 图像有条纹，并且显示出非常平坦的表面。
气体放电等离子体及其在低温大气等离子体清洗机中的应用探讨:低温大气等离子体清洗机的等离子体特性与放电特性密切相关，而放电特性与励磁电源有关，与低温大气等离子体产生相关的气体放电方式和条件有多种形式，按数量主要有:电弧放电、容性射频耦合放电、感性射频耦合放电、微波放电、标准大气电弧放电、螺旋波等离子体、获得等离子体的方法有很多种，根据数量的不同，可分为直流放电、低频放电、高频放电、微波放电等类型。
物理工艺一般要求比化学工艺有较低的压力。物理等离子清洗是通过激活离子除去表面污染物，因此要求在通过碰撞去激的减活作用之前，已激励的粒子和自由基团碰撞到基板表面。因此，压力参数的设定是至关重要的，如果工艺压力过高，已激励的粒子和自由基团在到达键合焊盘之前将与其它粒子经过很多次的碰撞，因此减低了清洁力。如果压力过低，活性离子没有足够的活性能力除去表面污染物。
因此，聚乙烯表面呈现的化学惰性，使得聚乙烯难于粘接。对聚乙烯进行表面处理提高其粘接性显得尤为重要。 等离子体表面处理处理PE聚乙烯 等离子体中的活性粒子具有的能量一般都接近或超过碳一碳键或其它含碳键的键能，因此能与导入系统的气体或固体表面发生化学或物理的相互作用。
低温等离子金属表面活化
如今等离子清洗机以其精细清洁、无损改性、无废弃物、无污染、处理作用较佳的优势已被上乘应用到印刷、玻璃、数码、塑料、金属、纺织印染、生物、药品、手机、医疗、电子、机械、电缆、光纤等职业之中，低温等离子金属表面活化不仅处理了诸多职业产品生产过程中的问题，并且更大程度地增强了产品的耐久性和质量，拓宽了资料的应用领域。
在PTFE材料化学沉积铜前的活化（化学）处理中，金属表面活化剂的作用可以采用的方法有很多，但总体来看，有两种方法既能保证产品质量又适合批量生产：a）化学处理法：金属钠与萘在四氢呋喃或乙二醇二甲醚溶液等非水溶剂中反应，形成萘钠络合物。钠萘处理液可蚀刻孔内PTFE的表面原子，从而达到润湿孔壁的目的。这是一种效果好、质量稳定的典型方法，目前应用广泛。
