等离子体与材料表面改性的基本理论可以简单地解释为:等离子体中的各种活性粒子与材料表面层发生碰撞，大分子物质的亲水性导致大分子氧自由基在能量交换过程中发生进一步反应，将新的基因群引入材料表面层并去除小分子，从而提高材料表面层性能。研究表明，等离子体作用后材料表层发生四种变化:形成氧自由基;物质表层放电空间中的活性粒子碰撞，意味着表层分子之间的离子键打开，形成大分子氧自由基，物质表层具有反应活性。造成表面层腐蚀。
活性气体研究所产生的等离子体也可以增加表面粗糙度，大分子物质亲水性强弱但氩离子电离产生的粒子较重，电场作用下氩离子的动能明显高于活性气体，因此其粗化效果更明显。在无机基板表面粗化工艺中应用最为广泛。如玻璃基材表面处理、金属基材表面处理等。③活性气体辅助在等离子体清洗机的活化和清洗过程中，过程气体往往是混合的，以达到更好的效果。氩气由于其大分子和电离后产生的粒子比较大，在表面清洗和活化时通常与活性气体混合。
当臭气分子获得的能量大于其分子键能的结合能时，大分子物质亲水性强弱臭气分子的化学键断裂，直接分解成单质原子或由单一原子构成得无害气体分子。 同时产生的大量·OH、·HO2、·O等活性自由基和氧化性极强的O3，与有害气体分子发生化学反应，最终生成无害产物。使复杂大分子污染物转变为简单小分子安全物质害的物质，或使有毒有害物质转变成无毒无从而使污染物得以降解去除。
低温等离子体中粒子的能量一般在几到几十电子伏特左右，大分子物质的亲水性大于高分子材料的结合键能（几到十电子伏特），可以完全打破有机大分子的化学键，形成新的键；但远低于高能放射线，只涉及材料表面，在不影响基体性质的非热力学平衡状态下的低温等离子体中[1～3]，电子具有更高的能量，可以打破材料表面分子的化学键，提高粒子的化学反应活性（高于热等离子体），中性粒子的温度接近室温。
大分子物质的亲水性
第二步:被激发的大分子是不稳定的，然后分解成离子或保持其能量，保持在亚稳态。步骤3:当自由基或离子在聚合物表面发生反应时，可能会形成以下情况:(1)低温下形成的致密交联层;(2)低温等离子体与普遍存在的蒸汽或个体发生聚合，并聚集在聚合物表面形成可设计的涂层;(3)低温等离子体与表面自由基或离子反应形成改性层。转换失败。低温等离子体处理可用于表面净化、表面活化、表面粗化、表面刻蚀和表面数据积累。
在等离子清洗机的处理中，不仅可以还原反应后的固体材料表面的氧化物，而且通常它会深入到材料内部以还原更深的氧化物，而金属氧化物中金属的还原作用是一个应用示例。它就是其中之一。分解分解的三个过程由于等离子清洗机中等离子体的作用，固体材料的表面分子被分解，与大分子的分子键断裂，分子量降低。四。聚合过程。等离子清洗设备可用于表面清洗、蚀刻、表面活化改性等多种场合。
混合直流/直流。在电镀过程中，金属外壳的表面一般都是镀镍的，但最常见的是镀镍。贝壳的缺点是容易氧化。外壳的氧化层通常被去除。套管的结构越来越复杂，所以套管的狭窄部分就是套管。不再使用橡胶靴，橡胶靴会产生额外的风险。使用氩气或氢气作为清洗气体进行射频等离子清洗后，可以充分去除外壳表面的镀镍层。由于待清洁腔室中的等离子体分布均匀，因此可以实现复杂的结构。
等离子体Z的产生主要依赖于电子撞击中性气体原子，解离中性气体原子产生等离子体，但是一个中性气体的原子核对它周围的电子有一个结合能，我们称之为结合能，外部电子的能量必须大于这个结合能，它们才能解离这个中性气体原子。而外部电子往往能量不足，没有能力解离这种中性气体原子。所以我们必须用外能的方法，给原子电子以能量，让电子用它来解离这个中性气体原子。
大分子物质亲水性强弱
物质与等离子体反应产生新分子，大分子物质的亲水性进一步加速新分子分解形成气态分子，最终去除表面的粘性污渍。等离子清洗的主要特点是可以处理多种粘性污染物，可以清洗金属、氧化物和大多数有机材料，可以清洗物体的整体、局部和各种复杂结构。。等离子清洗机主要通过传导散热和辐射散热来处理散热。等离子清洗机具有利用等离子实现基本清洗方法的效果。等离子体是化学物质的一种状态，也称为化学物质的第四态，不属于一般的固液气三态。
因而决定金刚石的形核要素包含： 1．基体资料：因为形核取决于基体外表碳的饱和程度以及抵达构成核心的临界浓度，大分子物质亲水性强弱[Joflreau,P.O.Haubner, R.and Lux, B., j.Ref.Had Metals 7(4)(198):186-194]因而基体资料的碳的分散系数对形核有重要影响。
