等离子体分为高温等离子体和低温等离子体。高温等离子体只有在温度足够高的情况下才能发生。太阳和恒星不断发射这种等离子体，低温等离子电晕机其粒子温度高达数千万甚至数亿℃，可用于能源领域的可控核聚变；低温等离子体可在常温下发生，其电子温度可达数千甚至数万℃，可激发、解离、电离、结合分子或原子。低温等离子体可分为热等离子体和冷等离子体。
2）在IC芯片制造领域，低温等离子电晕机真空等离子体设备加工技术已经成为一种不可替代的成熟加工技术，我们的低温等离子体表面处理设备也可以通过在芯片上注入离子源或晶圆涂层来实现：将氧化膜去除到晶圆表面，有机物去掩蔽和表面活化等超净化处理提高晶圆表面的润湿性。3）当IC芯片含有引线框时，将晶圆上的电连接与引线框上的焊盘连接，然后将引线框焊接到封装上。
粒子在温等离子体中的能量一般在几到几十电子伏特左右，电晕放电低温等离子体处理装置大于高分子材料的结合键能（几到十电子伏特），可以完全打破有机大分子的化学键，形成新的键；但远低于高能放射线，只涉及材料表面，不影响基体的性质。在非热力学平衡低温等离子体中，电子具有更高的能量，可以打破材料表面分子的化学键，提高粒子的化学反应活性（高于热等离子体），而中性粒子的温度接近室温。这些优点为热敏性聚合物的表面改性提供了适宜的条件。
等离子清洗机清除碳化氢后的污垢，电晕放电低温等离子体处理装置如油脂、辅助添加剂，有利于粘接，功能耐用稳定，坚持时间长。等离子清洗机不需要箱体，可直接装备在生产线上进行在线操作。与磨边机反向操作相比，操作功率大大跋涉。等离子体清洁器电源：有三个初级功率频率，分别为40kHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz需要功率匹配装置，2.45GHz也叫微波等离子体。
低温等离子电晕机
离子碰撞加热了清洗后的物质，使其更容易反应；选择40kHz超声等离子体，加入适当的反应气体可有效去除除了胶体残留物、金属毛刺等，2.45G微波等离子体还经常用于科研和实验室。。首先，让我们了解一下等离子清洗机的设备是什么。Z基等离子体清洗装置包括四个主要部件：激励电源、真空泵、真空室和响应空气源。
等离子清洗机可有效用于IC封装工艺，可有效去除材料表面有机物残留、微颗粒污染源、氧化物薄层等，提高工件表面活性，避免粘接分层或虚焊。等离子也将继续发展和扩大其应用范围到目前，其制程技术向LED封装和LCD行业推广势在必行。等离子体表面清洗技术将越来越广泛地应用于IC封装领域，并以其优异的性能成为21世纪IC封装领域的关键生产装置，成为大规模生产中提高产品良率和可靠性的重要工序措施，未来不可或缺。。
1.表面腐蚀，等离子体的作用使原材料表面凹凸不平，增加了表面粗糙度；2.在等离子体作用下，塑料表面出现局部活性原子、氧自由基和不饱和键，与等离子体中的活性粒子反应，形成新的活性官能团。
低温等离子体在笔舌表面处理中的应用；低温等离子体表面处理技术的基本原理是改变传统的水笔表面有机化学加工工艺，采用低温等离子体处理技术是一种很好的方法。所谓等离子体是化学物质的一种形式。一般情况下，化学物质以固体、液体和混合气体三种形式存在，但在某些特殊情况下，可以以第四种形式存在，如太阳表面的化学物质、地球大气层电离层中的化学物质等。这些化学物质的形式被称为等离子体形式，也被称为第四种形式的化学物质。
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等离子加工：等离子喷枪产生的高温高速射流可用于焊接、堆焊、喷涂、切割、加热切割等机械加工。等离子弧焊比钨极氩弧焊快得多。1965年问世的微等离子弧焊接，电晕放电低温等离子体处理装置焊炬尺寸仅为2～3毫米，可用于加工非常精细的工件。等离子弧堆焊可在零件上堆焊耐磨、耐腐蚀、耐高温合金，用于加工各种特殊阀门、钻头、刀具、模具、机轴等。
对于低频端的射频放电，低温等离子电晕机除重离子外，等离子体中其他粒子的运动都能跟上射频电磁场的变化；对于高频射频放电，只有等离子体中的电子能响应射频电磁场的变化，而离子由于惯性大，只能响应时均电场。在射频的整个波段内，电子能立即响应射频场的变化。特别地，13.56MHz频率及其谐波频率通常用于工业和医学，而其他RF频率被分配到通信领域。空间等离子体推进器中使用的螺旋波等离子体源也工作在射频频段，通常为13.56MHz。
