真空等离子清洗系统介绍及其示意图真空等离子清洗机也被称作等离子表面处理仪，其原理是机器对气体（如氮气）施加足够大能量使之成为等离子状态，利用等离子体中活性粒子（电子、离子、活性基团等）的活化作用来起到清除被清洗物质外表杂质的目的。这种清洗方法能进入到物体的细小孔眼和凹陷的里边完成清洗工作，可以不用去担心被清洗物质的外形，而且清洗的效果十分显著。
真空等离子清洗系统结构：
真空等离子清洗系统包括真空腔体、真空系统、射频电源及匹配系统、充气系统、控制系统等。真空等离子清洗系统的设备总体结构如下所示：
真空等离子清洗系统各部分结构示意图
1、触摸屏 2、控制按钮 3、等离子体发生器 4、机柜 5、真空腔体 6、真空计 7、电极板 8、馈电组件 9、真空电磁阀 10、流量计 11、电极板架 12、放气阀 13、真空泵
真空腔体是真空等离子清洗系统关键结构部分,等离子体的产生,材料的清洗处理均在该腔体中完成。低温等离子体是在一定真空度的状态下产生的,这就要求真空腔体具有密封性,同时考虑到整个设备的重量,一般真空腔体采用铝合金焊接成型，也可以采用不锈钢焊接成型。
低温等离子体是在电极板之间放电产生的,因此,在真空腔体中设计了极板组件,待处理的材料存放在极板上,如图所示：
真空等离子清洗系统电极组件真空系统由真空泵组、真空腔体、真空计、真空电磁阀及真空管路组成，真空电磁阀控制真空泵组的开启及真空腔体与大气的联通与封闭。真空系统是真空等离子清洗系统的核心部分，试样在真空腔体中进行集中处理，真空泵组负责将真空腔体抽到一定真空度;
电源系统由电源、匹配系统，放电极板等组成，利用放电极板进行高频放电，使腔体内产生等离子体，自动阻抗匹配器，与射频电源配合使用，自动匹配器内部安装可调电容器，电机调整，当负载变化时，快速自动调整，达到等效匹配，提高输出效率。
充气系统由截止阀和质量流量控制器组成,充气管路可根据工艺要求设计,分别接不同的气体,根据不同的被清洗材料可以选择O,H2,Ar2等。清洗过程中,要保持真空室内一-定的真空度,并且要动态平衡稳定,这样产生的等离子体才能稳定,并且气体不断置换,可使反应时产生的废气及时排出,避免污染。
控制系统采用可编程逻辑控制器(Programma-bleLogicControl，PLC)和人机系列触摸屏进行联合控制，可通过对触摸屏的点击操作控制真空等离子清洗系统的运作。控制系统实现全工艺过程的自动控制,实现自动预抽、自动充气、自动平衡、产生等离子体、清洗等步骤。
上述真空等离子清洗系统使用传统的电容耦合式等离子清洗机结构，即内平行极板。系统主要由三大部分组成包括真空系统、放电系统和控制系统，主要用于材料的表面清洗活化改性等场合。真空等离子清洗系统介绍及其示意图00224493