由于大型等离子清洗机蚀刻后的金属硬掩膜图形将作为沟槽蚀刻的掩膜层使用，物理气相沉积中膜层附着力金属硬掩膜层蚀刻后的图形完整度、关键尺寸都将被再次传递到(超)低介电常数材料，经过沟槽蚀刻形成金属连线。金属硬掩膜层蚀刻后图形对于设计图形传递的保真度、蚀刻后关键尺寸偏差的负载效应，都将被后续的沟槽蚀刻传承甚至由于沟槽蚀刻的负载效应会继续放大这些偏差，因此，大型等离子清洗机需要对金属硬掩膜层蚀刻进行严格控制。
采用等离子清洗技术对阴极面板表面进行处理，物理气相沉积中膜层附着力既可以清洁阴极面板的表面，又可以增加阴极面板的表面活性，满足多碱光电阴极的制作要求，使多碱光电阴极膜层的生长质量达到传统酒石酸溶液浸泡处理后的效果。 同时等离子清洗技术与传统的酒石酸溶液浸泡相比，效率更高，且减少了酒石酸溶液、去离子水及酒精等资源的使用，达到了降低成本和保护环境的目的。
在氮化硅薄膜中，物理气相沉积中膜层附着力H的浓度与后续的氢氟酸刻蚀速率密切相关。通过控制氮化硅膜层中氢的浓度，可以实现改变性质的氮化硅膜层与体氮化硅膜层之间的选择性刻蚀比。在锗硅材料侧壁刻蚀中，当等离子体火焰刻蚀停止时，采用这种类原子层刻蚀方法可以将硅存储损耗控制在6%；内在。。等离子火焰机的喷枪喷出低温等离子体，形状像火焰但不会点燃包装盒。但为了方便客户，等离子火焰机还具有高安全性、高联锁的功能。
近年来机械制造业普遍采用物理清洗和化学清洗，膜层附着力大于1kg根据清洗用途可分为湿清洗和干式清洗两种，等离子清洗机plasma电浆干式清洗在电子产品的工业生产中得到广泛应用。 湿法清洗关键是借助物理和化学(有机溶剂)的功效，如吸附、渗透、分解、分离等，以超声波、喷雾、旋转、机械振动等物理特性去除污垢，这种清洗作用和应用领域不同，清洗效果也有一定差异。
膜层附着力大于1kg
等离子体表面处理的原理是给一组电极提供射频电源，电极之间形成高频交变电场，区域内的气体在交变电场的搅动下形成等离子体。活性等离子体对物体表面进行物理轰击和化学反应，使被清洗物体的表面物质变成颗粒和气态物质，从而达到表面处理的目的。等离子体表面处理具有性能稳定、性价比高、操作简单、使用成本低、易于维护等特点。
, 设备主体结构及电气控制系统等。等离子体：等离子体是由离子、电子、自由基、光子和中性粒子组成的电离气体，正电子和电子的密度大致相同，整体呈电中性。大气等离子清洗清洗原理：等离子清洗可以去除样品表面的污染物，通过用等离子体处理样品表面来提高其表面活性。可以为每种污染物选择不同的清洁工艺。根据产生的等离子种类不同，等离子清洗可分为化学清洗、物理清洗和物理化学清洗。等离子清洗是一种高度精确的干洗方法。
关于风险废物的处理，我过常用的是传统的燃烧炉设备，可是其处理却有不少的缺点： 1、燃烧法出资大，占用资金周期长。 2、燃烧对废物的热值有必定要求，一般不能低于5000kJ/kg，绑缚了它的运用规模。 3、燃烧进程中发生的废弃物，必须有很大的资金投入才能进行有用处理。 4、耗费许多电能，留下残留物，可能会发生有毒的物质，构成2次污染 5、设备出资大，技能集成较高，处理确保水平要求也高。
长寿命主机与喷枪可连续24小时不间断工作，处理宽度2-4mm，适合微小细缝处理，特殊设计的喷枪具有气体冷却功能。超低温10mm等离子处理设备技术参数： 处理宽度：4-10mm 处理速度：10～50m/min 喷枪外尺寸：φ32*232 (mm) 重量：约0.5KG 喷枪套管长度：3米超低温等离子处理设备适合处理物品： 1、LCD 绑定专用等离子处理。
物理气相沉积中膜层附着力
真空等离子体设备仅涉及复合材料(10- 1000a)的浅层表面，物理气相沉积中膜层附着力在保持材料自身特性的同时，可赋予一种或多种新功能;真空等离子设备结构简单，操作维护方便，可以连续运行，经常几瓶蒸汽就可以代替1000kg以上的清洗液体，所以清洗成本将大大低于湿法清洗。真空等离子体设备全过程可控:所有参数均可电脑设定，数据统计，质量管理。真空等离子设备处置几何形状不限:大或小，简单或复杂，零件或纺织产品，全部可以处置。。
