4.取两个并显示OK产品，5分钟商学院附着力法则一个是脏的，在同一位置暴露的ITO汗水（不戴手套，直接戴上指套，大约15分钟后，指套有汗渍），然后打开产品腐蚀观察（车间温度控制范围：22°C +/- 6 ° C，湿度控制范围 55% +/- 15%）。产品 A 进行了等离子清洗，但产品 B 没有。连续通电（200小时）测试后的结果如下。产品 A 在 71.5H 上电时缺少一排，在 77H 上电时缺少第二排。
4.拿2台显示OK1PCS在同一位置暴露的ITO上沾上汗渍（不要戴手套，5分钟商学院附着力法则直接戴上指套，约15分钟后，在指套上沾上汗渍），然后产品一起通电观察腐蚀情况（车间温度控制范围:22℃+/-6℃，湿度控制范围:55%+/-15%)。对A产品进行等离子清洗；产品B未清洗。经过连续通电（200小时）测试，结果如下：产品A通电71.5H有一条漏线，通电77H有第二条漏线；当产品B通电4.5H时，显示缺线4条。
借助等离子体清洗机，5分钟商学院附着力法则可使受(机)物污染的表面受到离子轰击；在真空情况下，污染物质一部分地挥发，在高效率能量颗粒的影响下，由于高效率能量颗粒的影响，污染物质被真空带走。金属氧化物会与处理后的气体发生离子反应，处理后的气体通常是氩气和氢气。有时采用两步处理工艺。首先，在氧气中氧化5分钟，然后用氢气和氩混合气体除去氧化层。也可以与此同时用几种气体处理。
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前者在空旷空间或大气压下半封闭状态下排放，后者则需要在完全封闭的空间进行真空处理。通过等离子体电离的微观分析，无论以何种方式产生低压辉光，后代的形成过程基本相同。物质从低能聚合物到高能团簇的转变会提供从固体到液体或液体到气体的能量，气体进一步从外部吸收能量时会获得分子热。运动得到进一步加强。分子分解成原子。原子中的电子在满足的能量下与电子分离，成为自由电子，气体被电离。
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在等离子清洗机的半导体集成电路制造过程中，附着力法则的案例对所有气体的纯度要求非常高。典型气体的纯度一般控制在 79 秒（99.99999%）或更高，特种气体的单个成分控制在至少 99.99999%。纯度为 49 秒或更长（> 99.99%）。气体中杂质颗粒的大小应控制在0.1 μM的粒径范围内，另外需要控制的是氧气。水分和其他微量杂质（如金属）。许多特种气体具有毒性、腐蚀性和自燃性（在某些条件下在室温下燃烧）。
在这个装置中，附着力法则的案例两个电极被放置在一个封闭的容器内以形成一个电场，一个真空泵提供真空。随着气体越来越稀薄，分子结构与分子结构或离子自由运动的距离越来越大。它们在电场的作用下与等离子体碰撞形成等离子体。它的活性非常高，能量转换足以破坏几乎所有的离子键，并且在暴露的表面上会发生化学反应。在真空下，等离子体对工件表面进行化学或物理处理，以去除分子结构水平（通常为 3 至 30 纳米厚）。
