长期等离子处理（15分钟或更长时间）不仅活化（活化）材料表面，润湿时内聚力大于附着力而且显着降低了蚀刻和蚀刻表面的表面接触角和润湿性。等离子清洗机的优点首先，待清洗物可在等离子清洗后进行干燥，无需进一步干燥即可送至下道工序。可以提高整个工艺线的加工效率。其次，等离子清洗机使用户远离对人体有害的有害溶剂，避免了被清洗物容易被湿法清洗的问题。 ;三、避免使用三氯乙烷等对ODS有害的溶剂。
在IC芯片制造领域，内聚力大于附着力图等离子体清洗机的处理技术是不可替代的成熟工艺，无论在芯片源离子注入，还是晶圆镀膜，还是我们的低温等离子体表面处理设备都能做到：等离子体清洗机去除晶圆表面氧化膜、有机物、去除掩膜等超净化处理，表面活化提高晶圆表面润湿性。
这些都会导致电路的长期可靠性得不到保证。等离子体是由正离子、负离子、自由电子等带电粒子和激发态分子、自由基等不带电中性粒子组成的部分电离气体。因为它的正负电荷总是相等，润湿时内聚力大于附着力所以叫等离子体。一些非聚合无机气体(Ar、N2、O2等）在高频低压下激发产生含有离子、激发分子和自由基的等离子体。通过等离子体轰击，可以解吸衬底和芯片表面的污染物，有效去除键合区的污染物，提高键合区表面的化学能和润湿性。
在等离子蚀刻过程中，内聚力大于附着力图蚀刻剂在处理（气体）气体的作用下转化为气相（例如，用氟气蚀刻硅）。工艺（气体）气体和基材由真空泵抽出，新工艺（气体）气体不断覆盖表面。不要腐蚀。某些材料的使用被覆盖（如半导体工业中使用的铬。等离子蚀刻。处理过的（气体）气体的作用会引起腐蚀，被蚀刻的材料被汽化。转化的化合物（如氟的使用）在硅蚀刻中）使用真空泵（例如使用氟）气体）气体和基体材料，新工艺（气体）气体不断覆盖表面。不要腐蚀。
润湿时内聚力大于附着力
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冷水等离子体清洗机也有其特点，这主要是因为冷水高压等离子体清洗机价廉物美，应用广泛。在不需要热水清洗的情况下，冷水清洗成本相对较低，因此很多用户都采用了冷水等离子清洗机进行清洗作业。如洗车用的小型冷水等离子清洗机应用较多。下水道疏通等离子清洗机一般采用冷水等离子清洗机，效果也很好。此外，还有一些大型厂矿企业，采用的是超冷热水高压等离子清洗机，当然使用效果更好。
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