通过在聚合物表面引入羧基(-COOH)、过氧化物(-O-O-)、羟基(-OH)和氨基团(-NH3)和极性物质，阴离子表面活化剂造粒机引起极性基团重排和非极性基团表面迁移或增加。促进材料的表面能体液与血液的接触反应和细胞的粘附固定。等离子体处理后的材料表面，可以产生广泛分布的阴离子、阳离子、官能团和自由基等。阳离子通过静电相互作用，促进蛋白质的粘附，阴离子和钙离子的结合促进细胞外基质的矿化。。
等离子清洗机通过半年的工艺探索，阴离子表面活化剂危害与客户深度合作，通过修改清洗配方，改变反应腔结构材料，提高腔清洗的均匀性等，最终将可靠的HC和阴离子数达到标准要求以下，该技术已在中国(国际)硬盘支架中获得no.;1 .推广应用生产基地的市场占有率，大大提高了成品率，降低了生产成本，更重要的是提高了硬盘的稳定性和寿命，可靠性和防撞性也有了光明(明显)的提高。为客户带来了巨大的经济效益和发展机遇。
目前，阴离子表面活化剂造粒机提高电极片粘合性能的常用方法有机械抛光、喷砂、化学处理等，其中机械抛光或喷砂会使电极片变形，二次造成污染。等离子体被称为物质的第四种形式，富含大量的正离子、负离子和其他特定离子。电晕等离子加工机是广泛用于各种材料表面改善的优良表面改善方法。阳离子和阴离子气体喷射在键面上，能量通过辐射、中性粒子流、离子流的碰撞作用在键面上，在材料表面形成自由基和化学反应。同时，身体和化学变化，如腐蚀、聚合和交联。
，阴离子表面活化剂造粒机这已成为硬盘空间的发展瓶颈，成为业界公认的问题。目前，化学清洗方法主要用于（减少）HCs 和相关阴离子的数量，收率低且效果不理想。经过六个月的工艺研究和与客户的密切合作，等离子清洗机将改进清洗配方，改变反应腔的结构材料，提高腔内的清洗均匀性。该技术在全球硬盘支架市场占有率第一的生产基地得到广泛应用和应用，显着提高了成品良率，降低了制造成本，更重要的是稳定了硬盘的性能和寿命可靠性和抗冲击性。
阴离子表面活化剂危害
硬盘的稳定性取决于硬盘支架和磁盘表面的寿命和稳定性，其中，硬盘支架上的HC和阴离子数量过多，会直接导致硬盘在运行过程中出现类似干电池的腐蚀，进而导致硬盘因数据丢失而报废，用传统方法很难有效降低（减少）其数量。因此，HC及相关阴离子很难降（减）到标准要求，成为硬盘领域发展的瓶颈，是业界公认的难题。目前，为了（减少）HC及相关阴离子的数量，常采用化学清洗，导致收率低，效果不理想。
这种等离子效应带来了均匀的表层亲水性， 等离子处理机不仅能在几秒内的时间内创造出最佳的附着性，还能确保涂料实现高质量的漆面。等离子处理机改性原理对低压气体施加电场作用，气体分子或原子就会发生离解，成为一种除了中性原子外还含有阳离子及数量大致相同的阴离子或电子的气体，处在这种状态的气体就称为等离子体。与通常的气体相比，它是处在受到高度激发的高能状态。
等离子性能处理器产生的直接结果是：一、产品装订质量更可靠、更基础消除胶盒开口的问题。其次，不要依赖进口优质粘合剂，只需使用普通的环保水性粘合剂即可。成本降低 50% 或更多。三是消除了磨边工序，消除了纸尘对周围环境和人体呼吸道的危害。等离子处理是表面清洁、活化（化学）和涂层的有效处理工艺之一，可用于处理塑料、金属和玻璃等各种材料。。
等离子表面处理机的优点:1、远离有机溶剂对人体的危害。2、绿色清洗法。3、不需要过多考虑清洗对象的形状，不规则复杂的物料都可以清洗。4、进一步提高清洗工作效率。5、等离子清洗机清洗成本低。6、可解决各种材料，无论是金属材料、半导体材料、金属氧化物还是高分子材料。7、在清洗、去污工作中，可以改善材料本身的表面特性。
阴离子表面活化剂造粒机
在处理大量工件时需要考虑这个问题。综上所述，阴离子表面活化剂造粒机等离子清洗技术适用于清洗物体表面的油、水、颗粒等轻微油渍，也可以在线或在线帮助您“快速、快速”地完成。批量清洗。等离子清洁剂在去除表面污染物时不会对健康或安全造成危害。与高清洁度标准的高精度电子元件相比，需要应用更精细的清洁和加工技术。等离子清洗是一种可以合理有效地替代化学清洗的加工技术。此外，等离子清洗可与水清洗技术相结合，以提高清洗过程的实际效果。
选择氩气作为真空等离子清洗机plasma的清洗气体，阴离子表面活化剂危害氩气等离子技术的清洗原理是利用微粒机械能进行清洁，氩气为惰性气体，在清洁过程中不会引起产品与气体发生化学反应，避免二次污染，由于前端加工过程中残留的残渣能被合理清除，从而使半导体可在整个键合过程中融合。相对于传统的湿法清洗工艺，真空等离子清洗机plasma等离子体工艺环保，价格低廉。。
