GHZ）是化学反应，二氧化硅等离子清洁设备高频等离子体（激发频率，13.56MHZ）包括物理化学双反应类型。 (2)工作气体的种类也影响等离子清洗的种类。例如，AR2、N2等形成的等离子体常用来进行物理清洗，通过冲击来清洗产品表面。形成等离子体。常用的反应气体如 O2 和 H2。化学清洗、活性自由基和污染与物质（主要是碳氢化合物）发生化学反应，形成一氧化碳、二氧化碳和水等小分子，这些小分子会从产品表面去除。
高频等离子体（激发频率，二氧化硅等离子清洁设备13.56MHZ）包括物理化学双反应类型。 (2)工作气体的种类也影响等离子清洗的种类。例如，AR2、N2等形成的等离子体常用来进行物理清洗，通过冲击来清洗产品表面。形成等离子体。在化学清洗中，活性自由基与污染物（主要是碳氢化合物）发生化学反应，形成一氧化碳、二氧化碳和水等小分子，从表面去除。产品。 (3)等离子清洗系统的清洗方式影响清洗(效果)效果。
CH4和二氧化碳作为等离子清洗剂的原料，二氧化硅等离子清洗设备生成C2烃复合反应 CH4和二氧化碳作为等离子清洗剂的原料，生成C2烃类。二氧化碳加氢的第一个完全还原产物是 CH4，部分还原产物是 C2 烃。其次，CH4的完全氧化产物是二氧化碳，部分氧化产物是C2烃，中间产物是CHX。这两个反应是相互可逆的。例如，CH4和二氧化碳同时活化，即二氧化碳的存在，有利于CH4的部分氧化，而CH4的存在则抑制了二氧化碳的显着还原。
, 共同作用促进了 C2 烃类的形成。对作为氧化剂的二氧化碳与 CH4 偶联反应的影响的调查取决于：首先，二氧化硅等离子清洁设备我们提出了一种解决 CH4 活化困难的方法，并提供了一种最大限度地利用气体的有效方法。通过使用二氧化碳，您可以减少温室气体排放。因此，本次讨论具有重要的学术价值，范围广泛。应用前景广泛。已经报道了由二氧化碳氧化CH4生产C2烃的路线。
二氧化硅等离子清洁设备
由于等离子洗涤器的作用，二氧化碳将CH4氧化成C2烃类可分为间接法和直接法。 C2烃合成系统。 ZHOU等人以介质阻挡放电的形式实现了二氧化碳复合CH4反应。当注入能量为87KW.H/(N·M3)时，甲烷转化率为64%，碳转化率为64%。二氧化碳为54%。 GALLON 等人和 PINHAO 等人分别研究了在 DBD 放电等离子清洗机作用下 CH4 和二氧化碳的复合反应。
讨论的结果是，重组反应的主要产物是合成气，它是少量的碳氢化合物（主要是 C2H6）。但在DBD放电等离子等离子体的作用下，CH4的反应产物转化和二氧化碳复合反应相对较低，反应能耗较高。 LI等人分别研究了在直流和交流电晕放电作用下CH4和二氧化碳的复合反应。
与金属材料相比，高分子材料具有低密度、低比强度和比弹性、优良的耐腐蚀性、成型工艺简单、成本低、化学稳定性好、热稳定性好、极好的介电性能等诸多优点，极低摩擦系数、包装、印刷、农业、轻工、电子设备、仪器仪表、航天航空、医疗器械、复合材料由于其优异的润滑性和优异的耐候性。广泛应用于材料等行业。
羊毛处理后的平均纤维细度比处理前略高，纤维的短毛增加，手感比处理前略粗，水的回收少，高支纱断头。会大大减少。毛织物经等离子法处理，可在织物表面形成一层薄膜。具有均匀性好、针孔少、耐溶剂性好、热稳定性好、对服装和衬里附着力强等优点。目前，国内外几乎没有利用低温等离子设备对蚕丝进行改性处理的研究。处理过的橡胶纤维由低温等离子处理过的橡胶制成，可显着提高湿度和染色性。
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5）确保在关闭设备时，二氧化硅等离子清洗设备将其关闭，关闭，关闭所有控制开关。关闭电源并妥善存放。 2、使用低温等离子净化/消毒设备时的注意事项 2）设备的工作温度必须控制在-10℃到40℃，但不要冷冻。储存温度应为-10至55°。 C；3）等离子净化消毒设备运行时环境湿度应小于85%，但不得结露，储存湿度应小于93%，不得结露。请勿在浴室内使用。或者设备潮湿的地方； 4) 保持设备进风口的出风口和出风口没有被堵塞。
使用前，二氧化硅等离子清洗设备请检查周围无异物，出风口是否堵塞。冷等离子净化消毒设备由这些部件组成。描述名称及其功能。 1. AC220V 电源输入插座：供电 2. 电源开关：控制电源连接的开/关 3. 低温等离子电源调节控制键：根据实际环境将气味调大 还需要功率值 4. 功率显示屏幕：实时显示当前功率值。五。散热风扇：及时散发设备运行产生的热量。
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