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还有一种等离子清洗机是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用，表面附着力检查国标即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀，两种清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态，容易吸收反应剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更容易产生反应；其效果是既有较好的选择性、清洗率、均匀性，又有较好的方向性。 典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。
在等离子体中,粒子的温度是不同的,与温度相关的粒子运动速度的运动质量,现有的等离子体与钛离子温度,电子温度的Te说,和中性粒子,如原子、分子或原子与Tn的温度,对于Te大大高于Ti和Tn,也就是说,在低压气体,气体的压强是只有几百帕斯卡,当使用直流电压或高频电压电场,由于电子本身的质量量很小,容易加速电池,这样高的平均可以达到几个电子伏特能量,电子,这种能量的相应温度是成千上万度(K),和弟子由于大质量,很难被电场加速,所以温度只有几千度。
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低温等离子体中的高能活性粒子与材料表面相互作用，如表面活化、接枝聚合等，改变了材料表面的形貌和化学组成。等离子体是电中性基团，但含有大量的活性粒子：电子、离子、激发分子原子、自由基、光子等，它们的能量范围为1-10eV，这是纺织材料中有机分子结合能的能量范围。因此，等离子体中的活性粒子会与纺织材料表面发生物理、化学相互作用，如解吸、溅射、激发、刻蚀等；交联、氧化、聚合、接枝等化学反应。
在反应过程中，反应室内的气体通过辉光放电形成含有离子、电子和自由基等活性物质的等离子体。这些物质由于具有扩散性而被吸附在介质表面，与介质表面的原子发生化学作用，反应产生挥发性物质。同时，更高能量的离子在一定压力下物理冲击和蚀刻介电表面，去除再沉积反应产物和聚合物。介质层的刻蚀是由等离子表面处理设备的物理和化学性能共同作用完成的。
目前，等离子体提高粘接性能的机理有:(1)等离子体使表面具有更高的活性和更高的表面能;(2)表面引入的极性基团可与粘接物形成化学键;(3)等离子体中高能电子轰击，(4)等离子体处理可以去除表面的弱边界层，避免粘接后形成力学性能较差的弱边界层。
保证处理单元的高功率承载和高能量输出。（2）低温等离子体处理系统必须具有一定的放电处理功率。低温等离子体设备通常需要2～5瓦时/立方米/小时。即0立方米/小时的风量需要2kW～5kW处理。如果每小时0立方米的风量只需要几十、几百瓦的电力，最多就是静电（除尘）处理或局部处理。分解VOCs没有一定的能量是不可能的。。普洱茶从散茶（毛）到茶饼（压茶）的过程称为压茶。普洱茶压成饼，一方面方便储存，另一方面有利于后期转化。
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等离子体处理的表面粗化与蚀刻作用：对应不同的材料采用相应的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相等离子体与材料表面的本体发生化学反应及物理冲击，原子印油在橡胶表面附着力使材料本体表面的固态物质被气化，生成如CO、CO2、H2O等气体，从而达到微蚀刻的目的。主要特点：刻蚀均匀，不改变材料基体特性;能有效粗化材料表面，并能控制微蚀量。。
在其他情况下，表面附着力检查国标当自由基与物体表面的分子结合时，会释放出大量的结合能，进而成为引发新的表面反应的驱动力，从而触发物体表面物质的化学反应并被移除。电子对物体表面的撞击，一方面可以促进吸附在物体表面的气体分子分解解吸；另一方面，大量的电子撞击有利于引起化学反应。由于质量小，电子的运动速度比离子快得多。进行等离子体处理时，电子比离子更早到达物体表面，表面带负电荷，有利于引发进一步反应。
