超声波清洗一般通过空化来达到清洗目的，牵引力大于附着力空化是湿处理，清洗时间长，取决于清洗液的去污特性，增加了废液的处理量。目前广泛应用的工艺主要是等离子清洗工艺，其处理工艺简单，对环境友好，清洗(效果)水果结构非常有效。等离子体设备指的是高度活跃的(化学)等离子体定向运动在电场的作用下,钻孔的孔壁污染气体固体化学反应,同时通过泵泵会产生气体产品和一些粒子通过泵泵出口没有反应。
。等离子等离子体作用下由 CH4 和 CO2 合成 C2 烃：由 CH4 和 CO2 合成 C2 烃是一个非常有意义的反应。 CO2加氢的第一个完全还原产物是CH4，牵引力大于附着力部分还原产物是C2烃。其次，CH4的完全氧化产物为CO2，部分氧化产物为C2烃，中间产物为CHX。这两个反应是相互可逆的，例如 CH4 和 CO2 的共活化。即CO2的存在有利于CH4的部分氧化，而CH4的存在则抑制了CO2的显着还原。
等离子体常用的激励频率有三种:激励频率为40kHz的超声波等离子体、激励频率为13.56MHz的射频等离子体和激励频率为2.45GHz的微波等离子体。不同等离子体产生的自偏置是不同的。超声等离子体的自偏置在1000V左右，牵引力大于附着力射频等离子体的自偏置在250V左右，微波等离子体的自偏置很低，只有几十伏特，三种等离子体的机理不同。
所生成的电子在电场中加速时，牵引力大于附着力可获得很高的能量，并与周围的分子或原子发生碰撞，使分子和原子重新被电子激发，而本身又处于激发态或离子态，此时物质的存在状态即为等离子体状态。除气体分子、离子和电子外，等离子体中还存在电中性的原子或原子团，它们受能量的激发状态(也称为自由基)，以及由等离子体发出的光，其中，波的长度、能量的高低对等离子体与物质表面相互作用起着重要作用。
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等离子清洗机应用于光电半导体产业TO封装中既能大大提高粘接及键合强度等性能的同时，又能避免人为因素长时间接触引线框架而导致的二次污染。。
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