比起其他替代材料，对金属附着力好促进剂III-V族化合物半导体没有明显的物理缺陷，而且与目前的硅芯片工艺相似，很多现有的等离子体蚀刻技术都可以应用到新材料上，因此也被视为在5nm之后继续取代硅的理想材料。
经过长期的研究发现，对金属附着力好促进剂当化学物质通过吸收能量(热能、光子能量、电离)，可以使自身的化学性质变得更活跃甚至被裂解，当吸收的能量大于化学键能，即可使化学键断裂，形成游离的带有能量的原子或基团，一方面空气中的氧被裂解，然后组合产生臭氧，另一方面将污染物化学键断裂，使之形成游离态的原子或基团；同时产生的臭氧参与到反应过程中，使废气最终被裂解，氧化成简单的稳定的化合物CO2、H2O、N2等。
真空等离子设备具有成本低、不产生废弃物和没有污染等3大优点：等离子体是由中性粒子、阴离子和电子混合物组成的气体。 真空等离子设备产生的等离子体通常被称为物质的第四态。在外观上，对金属附着力好促进剂等离子体是准中性的，即包含相同数量的正负电荷。等离子体是气体的电离形式，可以通过AC或DC功率输入和电离气体介质获得。它不同于固体、液体和气体，其特点是物质处于电离状态。
通过推广轨迹的研究，对金属附着力好的聚合物我们不难发现其与全球的工业化发展进程和产业转移基本是一致的，基本是从欧美传往日韩，紧接着传向我国宝岛台湾地区，再被引入到了中国大陆。回溯过往发展经历，等离子清洗机在我国大陆的真正广泛应用，也就只是近来10多年而已。
对金属附着力好的聚合物
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对金属附着力好促进剂
