等离子体首先去除工件表面的有机污染层，二氧化钛的超亲水性利用其中碳氢化合物（如二氧化碳、水分子）转化为原子或原子团离开工件表面。然后将高分子氨基化合物表面分子注入官能团。该官能团大大提高了聚合物的表面能。一般表面能小于35达因的聚合物经等离子体处理后表面能可达68达因或以上虽然这种表面能的增加并不是永久性的，但经过等离子表面处理后的工件表面能在几天内仍能维持在68达因的水平，这意味着有足够的时间对工件进行喷涂。
通过在材料表面喷洒含氧等离子体，二氧化钛的超亲水性利用可以分离附着在材料表面的有机污染物碳分子形成二氧化碳，然后去除它;同时，有效地改善了材料的表面接触，提高了强度和可靠性。涂布纸、上光纸、涂布纸、镀铝纸、浸渍板、UV涂层、OPP、PP、PET等材料的彩盒胶粘剂打不开或无法粘接的问题，使用等离子清洗机可以更高效的处理。等离子清洗机可大大提高粘接强度，粘接质量稳定，手机智能配件天线和外壳;航空航天也已使用!。
这些气体比二氧化碳对全球变暖的影响更大，二氧化钛的超亲水性利用因为它们的寿命长，能量振荡低;此外，这些气体会释放F2、CnF2n+2和HF，以及其他自成体系的基团，这些基团在清洗过程中很难去除，对健康有害在过去的50年里，印刷等表面处理一直受到持续的政策压力，以减少溶剂和相关工艺步骤的使用。
等离子表面处理机中离子注入的掺杂集中在多晶硅的上半部分，二氧化钛的超亲水性利用因此用热磷酸去除多晶硅栅极以去除硬掩模会导致严重的NECKING现象。由于上述问题，多晶硅栅刻蚀从65NM开始转向软掩模刻蚀方法。传统多晶硅栅极的蚀刻主要以 CL2 和 HBR 等卤素气体元素为主。预掺杂多晶硅也受到卤素气体蚀刻颈缩的影响。这种现象就是韩国法律。通过文献的掺杂和卤素气体原子或分子的库仑力来解释。
二氧化钛的超亲水性利用
这些步骤会影响栅极氧化物 TDDB。文献还报道，AA 的上圆角对改善栅极氧化层 TDDB 非常有帮助。这是通过在等离子清洁器等离子设备的 SIN 硬掩模蚀刻步骤之后引入额外的顶部倒圆工艺步骤来实现的，以实现这一目标。 AA 角是理想的圆弧。在等离子清洗机的等离子器件的栅极刻蚀中，如果等离子不均匀，局部区域的电子流或离子流会从栅极侧破坏栅极氧化层，使栅极氧化层的质量变差。分层并影响 TDDB 性能。李等人。
射频与高频放电等离子体的产生机理是有所不同的；从应用的角度来看，高频电源更便宜，相关装置的设计与制造更间单，因此更实用，从近十年的文献分析来看，这类装置的结构大多采用了在惰性气体%1(或以惰性气体为主掺入一些活性气体)气流通道上形成DBD。
等离子弧切割是利用高温等离子弧的热量使工件缺口处的金属局部熔化（蒸发），并借助高速等离子体的动量消除熔融金属，形成缺口的加工方法。等离子弧焊是以等离子弧高能量密度束流为焊接热源的熔焊方法。等离子弧焊具有能量集中、生产率高、焊接速度快、应力和变形小、电弧稳定等特点，适用于薄板和箱体材料的焊接，尤其适用于熔化、易氧化、热敏性强的各种金属材料（钨、钼、铜、镍、钛等）的焊接。
其中T 为等离子体温度,n为等离子体中氘核的密度,τ为等离子体约束时间。。什么是等离子清洗机? 等离子清洗机(Plasma Cleaner)也叫等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体达到常规清洗方法无法达到的效果。 等离子清洗属于干法清洗，采用气相化学法去除材料表面污染物。
超亲水性涂料文献
等离子清洗的工作原理是利用真空泵将工作室进行抽真空达到30~ 50Pa的真空度，超亲水性涂料文献再在高频发生器交变电场的作用下将气体进行电离，形成等离子态，其显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光，材料处理温度接近室温。 活性等离子对被清洗物进行物理轰击与化学反应双重作用，使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质，经过抽真空排出，从而达到清洗目的。
