在等离子体伪栅去除工艺 中，附着力的利用情况要完全清除角落里的多晶硅，需要施加较长时间的基于NF3/H2气体的过蚀刻，但由于等离子体直接接触High-k栅介质层上的功函数金属，等离子体中的氢离子对栅介质层的损伤大大增加，Ji等人推测同步脉冲等离子体能够在保证角落没有多晶硅残留的情况下，通过降低电子温度来缓解对栅电介质层的损伤。
在高密度气体中，附着力的利用情况碰撞频繁发生，两种粒子的平均动能（温度）容易达到平衡，使电子温度与气体温度几乎相等。这是气压的正常情况。为1个大气压以上，一般称为热等离子体或平衡等离子体。在低压条件下，碰撞很少发生，电子从电场中获得的能量不容易转移到重粒子上。此时，电子温度通常高于气体温度，称为冷等离子体或非等离子体。平衡等离子体。两种类型的等离子体具有独特的特性和应用（参见工业等离子体应用）。气体排放分为直流排放和交流排放。。
根据电源的频率，附着力的利用情况怎么样以40kHz和13.56MHz为例：正常情况下，原料放入腔体以40kHz的频率运行，一般环境温度为65℃；下面，而且，机器配备了一个强大的冷却风扇。如果加工时间不长，原料表面温度会与室温一致。频率在13.56MHz会更低，通常是30℃；下面。
就TE而言，附着力的利用情况它远高于TI和TN。对于低压气体，气体的压力只有几百帕斯卡。在直流电压或高频电压的情况下，电子本身的质量很小，因此在电池中很容易加速和获取，所以用作电场。平均而言，高能量可以达到几个电子伏特。在电子的情况下，这种能量对应的温度是几万度（K），但是由于弟子的质量很大，很难用电场加速，温度只有几千度度。这种等离子体被称为冷等离子体，因为气体粒子的温度低（具有低温特性）。
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气体放电中常用的有辉光放电、电晕放电、介质阻挡放电、射频放电和微波放电等。在等离子体中，不同粒子的温度实际上是不同的，温度与粒子的动能即运动的速度和质量有关，等离子体中离子的温度用Ti表示，电子的温度用Te表示，而原子、分子或原子团等中性粒子的温度用Tn表示。当Te远高于Ti和Tn时，即此时气体的压力只有几百帕斯卡。
等离子体清洗原理 等离子体中的众多离子、激发分子、自由基等活性粒子不仅能去除原始样品，还会作用于固体样品表面。表面污染物和杂质引起蚀刻，使样品表面粗糙，形成许多细小凹坑，增加样品的比表面积。提高固体表面的润湿性。。聚四氟乙烯薄膜表面非常光滑，直接涂胶往往无法获得理想的粘合效果，所以如果要提高聚四氟乙烯薄膜的粘合强度，解决粘合难题。
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3. 在真空室内的电极与接地设备之间施加高频电压，使气体被击穿，并经过辉光放电而发生等离子化和发生等离子体，让在真空室发生的等离子体彻底笼罩住被处理工件，开始清洗作业，一般清洗处理继续几十秒到几十分钟不等。4.等离子清洗机清洗完毕后切断电源，并经过真空泵将气体和气化的尘垢抽走排出。。
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