plasma刻蚀（聚四氟乙烯plasma刻蚀机器）

控制单元分为两大部分:1)电源:主要有三个电源频率，plasma刻蚀分别是40KHz、13.56mhz和2.45ghz，其中13.56mhz是电源适配器所要求的。2)系统控制单元:分为三种，按键控制(半自动、全自动)、计算机控制、PLC控制(LCD触摸屏控制)。真空室真空室主要分为两种材料:1)不锈钢真空室。2)石英腔。真空泵分为两种类型:1)干泵。2)油泵。

自然界中，聚四氟乙烯plasma刻蚀机器很少有纯光谱色或加色与其他颜色混合。我们身边遇到的大多数颜色都与上述情况不同，它们是通过减色法混合而产生的。什么是减法混合?观察光波长(nm)黄色和绿色400-450的吸收颜色。purpleyellow450 - 480. - 490. blueorange480——greenred490 - 500。蓝色,greenpurple500 - 560。

等离子清洗新工艺可以去除上述材料界面上的有机污染物，plasma刻蚀刺激和粗化材料界面，提高支架和过滤器的粘接性能，提高电缆的可靠性和产品生产率。相机触摸组支撑架清洗:去除有机化合物，激活原料表层，提高亲水性和附着力，避免漏胶。在相机组件生产过程中，等离子体表面清洁(Plasma)生产工艺对提高相机组件的质量起着重要作用，在新一代相机组件的生产过程中起着关键作用。

曲轴油封是发动机的零件之一，plasma刻蚀在高温下与油接触，所以需要使用良好的耐热性和耐油性材料。高(级)汽车广泛使用聚四氟乙烯材料，随着汽车性能要求的不断提高，越来越多的厂家已经逐步使用这种材料，其应用前景非常广阔。(2)处理前的控制面板粘接;(3)内部PP件的预处理;(4)汽车门窗密封条加工;许多制造商已经使用等离子技术来处理这些基板。等离子体轰击增强了材料表面微观层的活性，可显著提高涂层效果。

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就反应机理而言，等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发到等离子体状态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应形成产物分子。产物分子被分析形成气相。反应残渣从表面脱落。大等离子清洗技术的特点是处理对象的基材类型，可以加工、金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚(乙)氯、环氧，甚至可以很好地与聚四氟乙烯等，并可实现整体和局部清洗和复杂结构。

等离子清洗设备广泛应用于电子产品，如手机外壳、手机按键、笔记本电脑外壳、笔记本电脑键盘、塑料制品等。广泛应用的原材料有聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚酯、聚甲醛、聚四氟乙烯、乙烯基、尼龙、(硅)橡胶、有机玻璃、ABS等塑料包装印刷、涂层和粘接工艺的表面预处理。这些材料的形状、宽度、高度、材质类型、工序类型以及是否需要在线加工，直接影响和决定了整个表面处理设备的解决方案。

首先是需要控制SF6/O2连续等离子体中等离子体表面处理器O2的含量，使副产物保护层不仅能保护图形侧壁，还能使槽底部进一步发生等离子蚀刻。对刻蚀速率的比较表明，光刻胶和氧化硅的刻蚀速率随温度的降低而降低，特别是在-℃以下。而当温度低于-℃时，硅的刻蚀速率提高，显著提高了硅对氧化硅和光阻剂的选择比。此外，在-℃以下的温度条件下，可以获得更明显的各向异性刻蚀特性。

有机(机械)大分子的化学键与高分子材料的键(数十电子伏)相比，可以被破坏，但远低于高能辐射的键，不影响基体的性能。在电镀、粘合和焊接操作过程中，粘合剂经常被残留物削弱，这些残留物可以通过等离子体选择性地去除。同时，氧化层对焊接质量也有危害，因此需要等离子清洗来提高焊接稳定性。等离子体刻蚀是通过高能气体将刻蚀物转变为气相。处理过的气体和基体材料它从真空泵中抽出，连续覆盖处理过的气体。

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等离子体清洗、等离子体刻蚀设备设置在密闭容器两个电极电磁场,利用真空泵达到一定程度的真空,气体越来越薄,距离和分子或离子自由运动的距离也越来越长,磁场的影响,撞击和等离子体，plasma刻蚀辉光会同时发生。等离子体在电磁场中运动，轰击被处理物体的表面，从而达到表面处理、清洗和蚀刻的效果。等离子清洗机的表面改性主要针对高分子材料和金属的表面改性。

1. 合理设置等离子清洗机的基本运行参数，聚四氟乙烯plasma刻蚀机器按照机器和设备的操作说明进行;2、保护等离子点火装置，确保机器设备的正常运行;3、机器设备运行前的准备工作，对相应的工作人员进行学习和培训，另外要保证等离子清洗机工作人员的操作能够严格遵守各种操作方法的标准;请执行等离子发生器关闭电源，然后执行相应的操作方法。。等离子体可分为高温等离子体和低温等离子体(包括热等离子体和冷等离子体)。