玻璃基板具有重量轻、透明度高、平整度高、机械硬度好、易切割加工等特点，黄酮类化合物亲水性强到弱同时具有良好的导电性和透光性，可以切断对人体有害的电子辐射，紫外线及远红外线。广泛应用于手机屏、PDA、计算器、电子手表、电磁屏蔽、光催化、太阳能电池、生物实验、各大高校实验室等新型科技领域。目前ITO导电玻璃精密表面处理的方法有等离子清洗技术、抛光处理、酸碱处理、氧化剂处理以及在ITO表面增加有机和无机化合物。
因此 等离子清洗机完成蚀刻基本功能一般会用哪种混合气体，黄酮类化合物亲水性强到弱又有什麼最基本的要点呢？刻蚀一般又会被称作蚀刻、咬蚀、凹蚀等，刻蚀的作用是运用常见的混合气体搭配建立具备明显蚀刻性的气相等离子与物件表层的有机化合物基材发生化学变化，转化成其他的例如一氧化碳,二氧化碳,H2O等混合气体，进而做到蚀刻的目地。 完成蚀刻所运用的混合气体大部分为氟化物混合气体，使用较多的是C4F。
为 C2 碳氢化合物的合成再融资。 Zhou等人利用介质阻挡放电法实现了CO2修饰的CH4反应。当注入能量为87kW.h/(N∙m3)时，黄酮类化合物亲水性强到弱甲烷转化率为64%，二氧化碳转化率为54%。加仑等人。和Pinhaoetal。分别研究了DBD放电等离子体作用下CH4和CO2的重整反应。研究结果表明，重整反应的主要产物是合成气，仅产生少量烃类（主要是C2H6）。
目前，化合物亲水性国内有多种表面改性技术可用于调节组织粘连、降低（低）组织阻力、抗栓塞或感染，以及用作化学疗法的抑制剂或去除某些蛋白质细胞。国外正在积极研究。重点是影响短期或长期组织反应的外观特征。等离子器件加工技术是一种通过简单地改变表面上的几个原子层就可以提高大多数医用聚合物吸附能力的技术。例如，改性聚烯烃、硅胶和含氟聚合物材料具有良好的粘合性。
化合物亲水性
由于潮湿的化学物质对产品的影响以及对先进材料使用的限制，传统的蚀刻和清洁方法往往不能有效地发挥作用。 PCB 表面等离子处理器等离子可有效去除环氧树脂、聚酰亚胺、化合物和其他标准和高纵横比树脂。氟树脂表面的等离子处理、非粘性表面的活化、改性树脂的清洁、为较少孔壁制备铜或直接金属化。双面和多层含氟聚合物孔的表面活化是提高其表面润湿性的必要条件。除碳-等离子处理设备从传统的板和盲孔进行碳处理。
GaCl3和 AsCl3都较易挥发，而AlCl3挥发较困难，会影响进一步蚀刻。 氟的使用量会影响InAIAs的蚀刻率。而含氟气体流量的加大会显著改变铟铝砷和铟镓砷的选择比。使用CHF3和BCl3的气体组合或者CF4和BCl3选择比都会提高一倍以上。
使用低温等离子清洗机在适当的生产工艺前提下，对PE、PP、PVF2、LDPE等原料进行清洗。原料表面形状发生明显变化，引入各种含氧基团，使表层由非极性、不易粘附到一定极性，易粘附、吸水性强，有利于粘附、涂布和包装印刷。。
等离子体表面处理器处理可以提供对尼龙表面的附着力，并可以通过在尼龙表面引入极性有机官能团来改善尼龙表面的亲水性和润湿性。清洁表面和表面润湿性在两个表面的着色组合中起着重要作用。表面润湿的程度取决于尼龙本身和所有尼龙染色材料的表面状况。这些染色材料经低温等离子体高效处理，表面张力可达到要求值。等离子设备改造后，接触角测试仪的水滴从种植体顶部滑落，无法确定角度值，接近0。
含氟化合物亲水性
表面改性：纸张粘接、塑料粘接、金属焊接、电镀前表面处理；表面活化：生物材料的表面改性，化合物亲水性印刷涂布或粘接前的表面处理，如纺织品的表面处理；表面蚀刻：硅的微细加工，玻璃等太阳能场的表面蚀刻处理，医用器皿的表面蚀刻处理；表面接枝：材料表面特定基团的产生和表面活性的固定；表面沉积：等离子体聚合沉积疏水或亲水性层；等离子火焰处理器广泛应用于金属、微电子、高分子、生物功能材料、低温杀菌和污染治理等诸多领域，是企业和科研院所等离子表面处理的理想设备。
随着这种增加，黄酮类化合物亲水性强到弱增加的因素是栅极与栅极氧化物面积的比值，它放大了损坏效应，这种现象称为“天线效应”。对于栅极注入，隧穿电流和离子电流之和等于等离子体中的总电子电流。电流如此之大，没有天线的放大效应，只要栅氧化层的场强能产生隧穿电流，就会造成等离子体损坏。在正常的电路设计中中间栅极端子通常需要由多晶或金属互连绘制的开口作为功能输入端子。这相当于将天线结构引入到弱栅氧化层中。
