的超声波事业部经常帮助人们清洗pcb和fpc，mero电晕机帮助这些厂商清洗电路板上的助焊剂和油污。湿式清洗后，的等离子事业部会帮助这些公司做干洗。干洗是指等离子体清洗，电路板经等离子体清洗后，效果得到明显改善，以提高晶粒与焊盘导电胶的附着力、焊膏润湿性、金属引线键合强度、塑料封装材料和金属外壳涂层可靠性等，等离子体清洗在半导体器件、MEMS、光电组件等封装领域推广应用具有广阔的市场前景。
等离子清洗机，mero电晕机晶圆晶片去除光刻胶。等离子清洗机是干洗，可控性强，一致性好，不仅彻底去除光刻胶有机物，还能活化和粗化晶圆表面，提高晶圆表面的润湿性。该等离子清洗机可用于半导体、微纳电子、MEMS、PCB、光学电子、光学制造、汽车电子、医疗产品、生命科学、食品工业等领域，可对各种材料表面的有机物进行去除、清洗、化学修饰或沉积。
利用等离子清洗技术，mero电晕机这些在生产过程中形成的分子污染可以轻松去除，从而显著提高封装的可制造性、可靠性和成品率。在芯片和MEMS封装中，衬底、基座和芯片之间存在大量的引线键合。引线键合仍然是实现芯片焊盘与外部导线连接的重要方法。如何提高引线键合的强度一直是业界研究的问题。引线键合的质量对微电子器件的可靠性有决定性的影响，因此需要键合区无污染物且具有良好的键合特性。
然后等离子体技术还可以用于半导体工业，mero电晕机是哪里的太阳能和平板显示应用半导体工业a.晶圆及晶圆制造：光致抗蚀剂去除；b.微机电系统(MEMS):SU-8胶水的去除；c.芯片封装：铅垫清洗，倒装片底充，提高封胶的附着力（效果）；D.失效分析：拆装；e.电连接器、航空插座等。F.太阳能电池：太阳能电池的蚀刻G.平板显示器a.ITO板的清洗；光刻胶去除；A.充填：提高充填物的附着力。
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它具有良好的热稳定性、阻燃性、电绝缘性和抗辐射性，已广泛应用于航空航天、国防、石油化工和海洋开发等领域。目前染料可染性较好的间位芳纶产品主要是美国杜邦公司的Nomex和日本帝人公司的Conex。我国间位芳纶年产量居世界第二位，但国产芳纶染色还存在一些问题，在一定程度上限制了芳纶的应用。
ICP刻蚀工艺主要用于加工制造SiC半导体器件和微机电系统(MEMS)器件，以刻蚀表面质量，提高SiC微波功率器件的性能。ICP完整的腐蚀过程可分为三个步骤:①腐蚀物质的吸附；挥发分形成；③解吸。这个过程包括化学和物理两个过程：蚀刻气体以电感耦合的方式产生辉光放电，产生活性基团。例如中性粒子和电子器件等，中性粒子与蚀刻材料表面的原子反应产生挥发性物质，这种副产物通过真空系统的萃取室被气体化学蚀刻。。
常压压力机通常由几十台机器组装成一条流水线，如蓝思玻璃厂的手机流水线。手机组装的每个环节都要经过等离子处理，需要自动化设计。这些配套设施甚至比大气等离子清洗机本身还要昂贵。常压等离子体清洗机包含的范围很广，或电晕机、常压辊对辊清洗机，其实都是常压等离子体清洗机的一种。无论是真空机还是大气机，大部分都是定制设备。整个过程由客户提供，然后我们提供解决方案，价格是在这个解决方案的基础上确定的。
等离子体表面处理技术作为一种绿色、环保、安全、节能的干法加工方法，在天然纤维和化学纤维的改性处理中独树一帜，近年来逐渐引起人们的重视。低温等离子体中的高能活性粒子与纤维表面的相互作用，如表面活化、接枝聚合等，改变了纤维表面的形貌和化学组成，从而改善了纤维表面的功能特性。今天，我们就来讨论一下相关知识。电晕机、常压准辉光(DBD)等离子设备和真空等离子清洗机在纺织工业中统称为等离子表面处理系统。
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等离子体处理通常分为两种情况，mero电晕机是哪里的一种是在真空环境下处理；优点是气体过程可控，通过对清洗过程的精确控制，达到理想的清洗效果。但价格更贵还有常压等离子清洗机，通常组装成在线等离子清洗机。它加工强度大、能量高、温度高，属于比较广泛的等离子体清洗方法。有很多材料是紧固的，耐高温的，所以没有必要把清洗过程控制得那么精确。比如手机玻璃盖板、手机tp边框，以及需要电晕机处理的塑料薄膜或金属膜，都是用常压等离子体处理的。
功率大的可以做几十千瓦，mero电晕机甚至从理论上来说，几百千瓦一般都是用来去除胶渣、蚀刻、真空等离子清洗机。如果使用中频电源，则需要加上水冷，这也是常用的等离子电源。常压旋转射流机火焰射频等离子清洗机的温度和平时房间里的天气温度差不多。当然，如果真空机全天连续使用，还是需要增加水冷系统。等离子射流的平均温度约为200-250°C，如果间距和速度设置正确，表面温度可达70-80°C左右。
