当粒子的热速远小于波速，粉末涂层附着力以及回旋半径（对磁化等离子体来说）远小于波长时，这时是冷等离子体，其波动现象采用磁流体力学方法来研究。 非磁化冷等离子体中的波有光波，波速比真空光速c大。对于磁化冷等离子体，它是各向异性的,介电常数成为张量。如同其他各向异性介质中会有两支波一样,磁化冷等离子体中也有两支波：寻常波与非常波。
等离子刻蚀机又称等离子刻蚀机、等离子表面刻蚀机、等离子表面处理装置、等离子清洗系统等。等离子刻蚀机技术是干法刻蚀的一种常见形式。其原理是暴露于电子域的气体形成等离子体，粉末涂层附着力等离子体产生等离子体，放出由高能电子组成的气体，形成等离子体或离子。在电场的情况下，释放的力足以粘附到材料或蚀刻表面，并与表面的驱动力相结合。在某种程度上，等离子清洗实际上是等离子刻蚀过程中的一个小现象。
CO2加入量变化导致反应的气体产物C2H4/C2H2比值和H/CO比值发生变化，粉末涂层附着力不好的现象随CO2加入量增加，C2H4/C2H2比值有所增加，H2/CO比值下降，这是由于反应体系内CO收率快速增加所致。。等离子体和表面的相互作用等离子体和表面的相互作用，例如溅射，已发现了一个世纪以上，但只有这一领域和受控热核聚变研究相结合，才得到迅速发展。在受控热核聚变研究的早期阶段，就已发现并研究了单极弧、气体循环等现象。
另一方面，粉末涂层附着力不好的现象各种活性粒子会轰击清洗材料表面，使得材料表面的沾污杂质会随气流被真空泵吸走。这种清洗方式本身不存在化学反应，在被清洁材料表面没有留下任何氧化物，因此可以很好地保全被清洗物的纯净性，保障材料的各向异性。TO(TransistorOutline),即晶体管外形。早期晶体管大都采用同轴封装，后来被借用到光通信中，叫做TO封装，即同轴封装。
粉末涂层附着力不好的现象
在等离子体中存在下列物质，处于高速运动转态的电子，处于激发转态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子、分子解离反应过程中生成的紫外线，未反应的分子，原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。 等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。
电路板等离子清洗机在清洁产品表面的优点一、线路板经等离子清洗机之后是干燥的，提高整个工艺流水线的处理效率，整个工艺能在较短的时间内完成；二、电路板等离子清洗机使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题;三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法。
由于氧气的强氧化性，本方案中更换氮气后，可以控制这一问题。三是只用氩气，仅用氩气就可以实现表面改性，但效果相对较低。这种情况比较特殊，是少数工业客户需要有限且均匀表面改性时的解决方案。常压等离子体，也是低温等离子体，不会损伤材料表面。无电弧，无真空室，无有害气体吸入系统，长期使用不会对操作人员造成身体伤害。。工厂生产的FPC并不具有优异的挠性，因为…A，FPC材料本身具有以下几点对FPC的挠性功能有重要影响。
在等离子体状态下，电子和原子键释放的原子、中性原子、分子和离子以高能无序运动，但它们完全是中性的。高真空室中的气体分子被电能激发，加速后的电子相互碰撞，使原子或分子的最外层电子被激发而脱离轨道，反应性比较强的离子或自由基被生成。这样产生的离子和自由基在电场的作用下被加速并不断碰撞，与材料表面碰撞，破坏了分子间原有的在几微米深度和孔内恒定的结合方式。深度，形成细小的凹痕和凸起。
粉末涂层附着力
