采用低温大气等离子体设备技术对GPJ太阳能底板的含氟表面进行处理。当处理功率达到4.0kW时，氟表面活化剂的特性处理周期超过3s，外表面功能达到最高点，材料外表面功能达到稳定。。等离子体表面处理设备的高效率，高表面清洗，低温等离子体制备和清洗效率为塑料，铝和钢化玻璃喷涂操作创造理想的表面标准。由于等离子清洗是一种干透处理后，产品可以直接进入下一阶段的生产和加工过程。因此，等离子体清洗是一个顺畅、高效的工艺技术环节。
等离子处理具有催化CO2改性甲烷的Ni/Al2O3催化剂的性能，氟表面活化剂的特性等离子处理和后续焙烧后的催化剂表面具有较高的低温催化活性和较强的抗积碳能力。这种催化剂是通过等离子技术制备的。与常规催化剂相比，该催化剂的金属活性物种的分散性明显改善，催化活性提高。低温等离子体可有效用于直接合成超细催化剂，改善催化活性成分分散、催化剂表面处理、活性成分在基体中的沉淀、催化剂协同作用等。
在线简式 反应器中，氟表面活化剂的特性可将一定粒度的催化剂放置在内外电极之间，并用金属丝网等物支撑， 催化剂取放操作过程较为复杂，且金属丝网对plasma等离子体放电有一定影响； 在针板 式反应器中，可将一定粒度的催化剂放置在下电极的铜质筛板上，催化剂取放操 作过程简单，并且制备一定粒度催化剂工艺较为简单。综上考虑，针板式反应器应作为研究CO2氧化CH4反应的优选反应器。
在等离子体中，氟表面活化剂一方面可以通过分步的方式将振动能逐渐提高到很低的反应能；另一方面，电子与分子的碰撞可以传递更多的能量，从而使中性分子转变为各种活性成分或电离中等大小的粒子。新组分主要包括超活性中性粒子、阳离子和阴离子。等离子体成为一种强大的化学手段，在常规化学反应无法产生大量新组分时发挥催化剂的作用。一般较低温度下的反应或给定温度下速率较快的反应都受等离子体的影响。
氟表面活化剂的特性
金属氧化物催化剂有利于乙烷转化为C2H2和C2H4，金属催化剂是产物中的C2H4。。等离子清洗机的刻蚀应用及新型磁存储器的介绍：磁性随机存取存储器（MRAM）是一种存储器，其核心部件是磁性隧道结（MTJ）。磁性隧道结是铁磁层/隧道势垒层（MgO等金属氧化物）/铁磁层的夹层结构。一层铁磁体称为参考层，其磁化方向是固定的。铁磁体被称为自由层，它们的磁化方向可以通过外部磁场或极化电流来改变。
在这个过程中，电子辐射后仍然是自由的，只是动能在降低。。DBD等离子体复合催化剂重整CH_4和CO_2的研究；等离子体下CO2氧化CH4主要由自由基引发，目标产物C2烃的选择性较差。而化学催化下CO2氧化转化CH4具有较高的目标产物选择性，如负载型镍催化剂给出的目标产物为合成气(CO+H2)；以镧系氧化物为催化剂的目标产物为C2烃。
然而，PD 负载对 C2 烃类产品的分布有显着影响。在 0.01% 的 PD 负载下，C2 烃产品中 C2H4 的摩尔分数增加到 78%。即C2烃类产品主要是C2H4。检测到 C2H2，但生成了 C3H8。随着PD负荷从0.01%增加到1%，C2烃类产品中C2H4的摩尔分数逐渐降低，C2烃类产品中C2H6的摩尔分数逐渐增加到LA2O3/Y。表明已经添加了PD。 -AL2O3催化剂进一步增加。
在很多工艺中，随处可见等离子体的这几种基本特性，这就逐渐形成了以等离子体为处理手段的基础制造业。单独的某种处理过程或几种处理过程综合作用可赋予等离子体不同的用途。例如，在等离子体中，利用等离子体的化学合成作用产生新的化学药品，或利用粒子的聚合作用在表面沉积形成薄膜等。。在半导体器件的生产过程中，晶片芯片表面会有各种颗粒、金属离子、有(机)物和残留粒。
福建默克快速氟表面活化剂
为了探讨plasma作用下纯乙烷转化反应，氟表面活化剂的特性同条件下考察纯乙烯转化反应: 为了探讨plasma作用下纯乙烷转化反应的可能机理，在相同plasma条件下考察了纯乙烯的转化反应，其反应的主要产物是：C2H2和CH4及少量积碳。根据上述实验事实，结合plasma作用下甲烷转化反应机理及等离子体特性，推测C2H6在等离子体条件下转化反应的历程如下。（1）plasma场产生高能电子。
为了加强其结构的稳定性，氟表面活化剂的特性提高膜的拉伸性能和清水性能，首先采用不同的方法来提高复合膜蛋白，多糖在成膜溶液中进行加入，例如，构建蛋白质体系，进行多糖美拉德反应，显著提高了薄膜的疏水性和阻隔性能，使薄膜具有一定的(抗)氧化特性。等离子体可分为高温等离子体和低温等离子体。高温等离子体广泛应用于切割、冶炼、焊接等领域。低温是等距离的。子体技术是一种新型的非热能技术，可以破坏(细菌)和修饰不稳定材料。
