从现有的蚀刻原理及经验分析，氩气等离子体氧等离子体中掺人氩等离子体既保证了化学蚀刻的强度也可通过较高的偏压加速，利用较重的氩气等离子体轰击石墨烯，保证对相对较厚的石墨烯薄膜进行物理攻击，达到蚀刻目的，但显然要清除残留物，物理蚀刻作用就不大了，而且会对下层的薄膜产生轰击、损伤。也就是说要用低的偏压的氧等离子去完成过蚀刻，这样既能有效去除残留物也可以很好地保护下层薄膜。
是继真空等离子体气相沉积膜之后 ，氩气等离子体很好的一种制备薄膜 ，不受真空条件的限制 ，能耗低，在工业应用中有前景广阔 。在相同的反应条件下进（行）气相沉积反应 ，制备纳米晶TiO2多孔薄膜，是自行设计并搭建介质阻挡放电装置 。 等离子体随着功率的增加 ，放电细丝的密度增加 ，随着电子密度和离子密度的增加 。 利用氩气等离子体的相似性 。在计算中，常压介质阻挡放电的电子激发温度约为0. 67 eV。
还有一种等离子体清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用，氩气等离子体处理仪器厂家即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀，两种清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态，容易吸收反应剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更容易产生反应；其效果是既有较好的选择性、清洗率、均匀性，又有较好的方向性。 典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。
一种是使用氩气/氧气组合，氩气等离子体处理仪器厂家主要用于非金属材料，对玻璃、PET薄膜等表面亲水效果要求较高的材料。二是采用氩气/氮气组合，主要用于金线、铜线等各种金属材料。氧气的氧化使该方案在交换氮气后有效地控制了这个问题。第三，当仅使用氩气时，可以仅使用氩气进行表面改性，但效果相对较弱。这是一种特殊情况，是少数工业客户在需要有限且均匀的表面改性时使用的解决方案。 3. 安全易用。
氩气等离子体
如等离子清洗机使用氩气、氦气、氧气、氮气、空气等非聚合性的气体，对有机聚合物粉体进行处理，有机聚合物表面会发生激活和电离，产生的自由基会与基体发生反应，可以在粉体表面引入活性官能团，或生成交联改性表层等，增强粉体的亲水性，提高加工性能和复合效果。通过对放电强度、气体种类、处理时长的把控，就可实现对不同粉体材料的不同处理目的。
等离子清洗机是一种利用气体辉光或亚辉光放电来改变材料表面结构，控制界面物理特性，并根据需要进行表面涂层的新型干式加工技术。天然纤维、功能性聚合物薄膜和其他表面处理具有巨大的潜在应用。下面我们就为大家讲解一下等离子表面处理的一些特点，看看你知道多少。 1、等离子清洗机为干式工艺，环保清洁。等离子清洗机使用的耗材几乎都是普通气体，例如压缩空气、氧气、氩气、氮气和其他工业气体。
等离子清洗机常用的工艺气体有氧气 (Oxygen, O2)、氩气 (Argon, Ar)、氮气 (Nitrogen, N2)、压缩空气 (Compressed Air, CDA)、二氧化碳 (Carbon, CO2)、氢气（hydrogen, H2）、四氟化碳（Carbon tetrafluoride, CF4）等。
提议选用3/8接口替代原立式连接头，选用快扭连接头或双夹套连接头，确保汽体输出管与等离子清洗机之间的密封性。假如化工气体是氩，提议用氧气减压。是由于氩气减压器的输出工作压力一般为0.15mpa，如一瓶气供应几台清洗机，其输出工作压力无法满足，非常容易造成机器设备的工作压力警报。气动调压阀门是气动操纵的关键构成部分，其作用是操纵外界汽体在所需压力下，确保其工作压力和流量平稳。
氩气等离子体
用六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体，氩气等离子体用等离子体在无机玻璃粉表面聚合包覆硅氧聚合物薄层，改善其在有机载体中的分散性能以及调节电子浆料的流变性、印刷适性和烧结性能，提升电子浆料性能以满足新型电子元器件和丝网印刷技术进步的要求。影响等离子体聚合的参数有：本底真空度、工作气压、单体HMDSO与工作气体氩气的比例、电源功率、处理时间、工作温度等。
例如：用氧气等离子体可以使有机物沉积被氧化掉；用惰性的氩气等离子体可以使颗粒污染被机械地冲洗掉；用氢气等离子体可以消除金属表面氧化等等。应用等离子清洗技术清洗金属、陶瓷和塑料表面的有机物，氩气等离子体大大增强了这些材料表面的附着力和键合力。随着对这门技术的研究的不断深人，其应用已越来越广泛。
