等离子体设备技术具有在不改变材料本体性能的前提下选择性优化材料表面性能的巨大优势，提高涂膜附着力特别适用于提高现有生物医学工程材料的生物相容性，缩短具有生物医学工程应用前景的材料投入使用和临床研究的时间。聚合物在生物医学工程中的应用是近几十年来聚合物研究的重点方向。等离子体设备在等离子体浸没干法刻蚀处理高分子材料时，可以在其表面引入新的官能团。
改进印染工艺，提高涂膜附着力使工艺高效环保。节能减排；印染后整理工艺使织物增值，对织物的抗静电、抗起球、去污、拒水拒油等效果显着；等离子车身处理可以与其他饰面结合使用，以提高饰面和功能性饰面的有效性。
可以降低键合芯片的电阻（如果有废料，如何才能提高涂膜的附着力键合芯片需要更大的电阻才能穿透废料）。在某些情况下，可以降低（降低）结温，从而提高产量和成本。 3）LED封装前的低温等离子处理设备：当废料注入环氧橡胶时，气泡形成速度过快，降低（降低）产品的质量和寿命。还值得注意的是，没有气泡。密封时产生。射频等离子清洗后，晶圆牢固地结合到基板上。这大大减少（减少）气泡的形成，并大大提高散热和发光效率。
地球上的人工等离子体也有类似的区别:有高温、高密度等离子体和低温、低密度等离子体。可控热核聚变反应堆是一种温度高、密度大、完全电离的人工等离子体。目前，如何才能提高涂膜的附着力对于可控热核聚变的研究，挑战在于如何长时间抑制高温高密度等离子体，使其产生光聚变，释放出巨大的聚变能量。另一类低温弱电离等离子体，也称为低温等离子体，包括各种工业应用的等离子体，从照明到半导体工艺。
提高涂膜附着力
2.适应性广：无论要处理的衬底类型如何，都可以处理，如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料；3.低温：接近常温，特别适用于高分子材料，比电晕、火焰方式存放时间更长，表面张力更高。4.功能强：只涉及高分子材料的浅表面(10-0A)，可赋予其一种或多种新功能，同时保持其自身特性；5.成本低：装置简单，操作维护方便，可连续运行。往往几瓶煤气就能代替上千公斤的清洗液，所以清洗成本会比湿式清洗低很多。
近年来，等离子清洗机频繁选用低温等离子技术，有效缩短了纺织品的生产制造周期，简化了生产制造流程，降低了企业的生产成本。那么等离子表面处理是如何工作的呢?等离子体清洗机产生的等离子体能对植物纤维进行衰变、交换、接枝、共聚等作用。
这里的危险是这些残留物会从内壁脱落并污染下一个循环过程。因此，在开始新的沉积工艺之前，应使用等离子清洁器清洁 CVD 室，以保持可接受的产品输出。常用的清洗气体是含氟气体，如 PFC 和 SF6，可用作等离子体产生气体，用于清洗 CVD 室壁上的 Sio2 或 Si3N4。在回收过程中，FFC在等离子体作用下分解的F原子可以蚀刻掉电极、室壁残留物和室中的硬件设备残留物。
等离子体无溶剂干法精细清洗在去除ODS和有机挥发性VOC的过程中具有重要作用。与溶剂清洗相比，等离子体具有工艺简单、成本低、环保节能的特点，也可以作为溶剂型深度清洗的重要补充。等离子清洗机可应用于各种基材和光学玻璃的清洗，如用于触摸屏、印刷、覆膜、喷涂、喷墨等工艺前的表面活化、改性、清洗等加工，从而提高材料表面接缝的耐久性和强度。
如何才能提高涂膜的附着力
为便于比较，如何才能提高涂膜的附着力现将三种活化条件下的CO2氧化CH4制C2烃反应的结果列于表4-3，由表4-3 可见：在催化活化法中，当反应温度高达1 K时，甲烷可以转化为C2烃，虽然C2烃选择性较高，但甲烷转化率很低，因此C2烃收率仅为2%。
幸运的是，提高涂膜附着力很多等离子刻蚀设备厂商已经注意到在刻蚀过程中需要保护非刻蚀区域或特定功能层，很多厂商已经推出或即将推出此类机型，以满足14nm以下节点的刻蚀需求。与目前主流的蚀刻工艺一样，蚀刻温度是另一个重要参数。有趣的是，石墨的刻蚀速率不随温度线性变化，但在450℃处有一个峰值；左右。更有趣的是，不同厚度石墨烯的刻蚀速率也不同，单层或双层石墨烯在不同温度下的刻蚀速率也不同。
